特許
J-GLOBAL ID：200903021851942451

画像のスペクトル解析の方法および装置

発明者：
ダリオ カビブ

ダリオ カビブ について

, 
ズビ フリードマン

ズビ フリードマン について

, 
スチーブン ジー.リプソン

スチーブン ジー.リプソン について

, 
ロバート エー.バックウォールド

ロバート エー.バックウォールド について


出願人/特許権者：
ヌメトリックス リミテッド

ヌメトリックス リミテッド について


代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-226359
公開番号（公開出願番号）：特開平7-301562
出願日： 1993年07月28日
公開日（公表日）： 1995年11月14日
要約：
【要約】【目的】 被写界の光学画像を解析してそのそれぞれの画素のスペクトル強度を決定する方法および装置を開示する。【構成】 この装置は、被写界からの入射光を集め(20)、入射光を走査し(22)、その走査された光をして干渉計(24)を通過せしめ、干渉計(24)をしてそれぞれの画素から発射された光のスペクトル強度の1次結合の所定の組に対応する変調された光を出力せしめ、干渉計(24)から出力された光を検出器アレイ(26)上に集束し、検出器アレイ(26)の出力を処理して(28)、そのそれぞれの画素のスペクトル強度を決定する。干渉計が移動形のものなら、1次元的検出器アレイの場合は1つの次元における走査が要求され、2次元的検出器アレイの場合は走査はいらない。干渉計が非移動形のものなら、2次元的検出器アレイの場合は1つの次元における走査が、1次元的検出器アレイの場合は2つの次元における走査が要求される。
請求項（抜粋）：
被写界の光学画像を解析してそのそれぞれの画素のスペクトル強度を決定する方法であって、(a)該被写界からの入射光を集めるステップと、(b)該光をして干渉計を通過せしめ、該干渉計をしてそれぞれの画素から発射された光のスペクトル強度の1次結合の所定の組に対応する変調された光を出力せしめるステップと、(c)該干渉計から出力された該光を検出器アレイ上に集束するステップと、(d)該検出器アレイの出力を処理してそのそれぞれの画素のスペクトル強度を決定するステップと、を含む、被写界の光学画像を解析してそのそれぞれの画素のスペクトル強度を決定する方法。
IPC (2件)：
G01J 3/45 ,  G01J 3/28
引用特許：
出願人引用 (10件)
  • 干渉計
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-357890   出願人：日本電気株式会社
  • 特開昭54-092293
  • 特開平3-144324
全件表示
審査官引用 (19件)
  • 干渉計
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-357890   出願人：日本電気株式会社
  • 特開昭46-041887
  • 特開昭54-092293
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM