特許
J-GLOBAL ID：200903021861927353
光ディスク基板の製造装置及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-097781
公開番号（公開出願番号）：特開平10-289487
出願日： 1997年04月15日
公開日（公表日）： 1998年10月27日
要約：
【要約】【課題】光ディスクや光磁気ディスク等のディスク基板を2P法により複製して、初期特性、耐食性に優れた光ディスク基板の製造装置及び製造方法を提供する。【解決手段】表面に凹凸パターンが形成されたシリコンスタンパ1と紫外線硬化樹脂を用いて転写形成する光ディスク基板2の製造装置において、高圧ガスにより少なくとも前記シリコンスタンパ1の凹凸パターンが形成された領域に前記高圧ガスを吹きつける吹き出し口6を設ける。また、高圧ガスとして除電ブローによる高圧ガスを用いる。
請求項（抜粋）：
表面に凹凸パターンが形成されたシリコンスタンパと紫外線硬化樹脂を用いて転写形成する光ディスク基板の製造装置において、高圧ガスにより少なくとも前記シリコンスタンパの凹凸パターンが形成された領域に前記高圧ガスを吹きつける吹き出し口を設けたことを特徴とする光ディスク基板の製造装置。
引用特許：
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