特許
J-GLOBAL ID：200903021907049550
ペリクル
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤巻 正憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-369633
公開番号（公開出願番号）：特開2000-194121
出願日： 1998年12月25日
公開日（公表日）： 2000年07月14日
要約：
【要約】【課題】 自身が異物発生源になってフォトマスクのパターン面に異物が付着することを防止することができると共に、任意の接着剤及びフォトマスク用の洗浄物質を使用することができるペリクルを提供する。【解決手段】 外枠フレーム1、この外枠フレーム1の内側に配置された内枠フレーム2、及び外枠フレーム1と内枠フレーム2とを連結固定する接続部材9が設けられたペリクルフレーム15と、外枠フレーム1の一方の開口端部に接着剤5により接合され張設されたペリクル膜4と、を有し、外枠フレーム1の他方の開口端部は接着剤5によりレチクル3のパターン面6に接合され、内枠フレーム2はペリクル膜4及びレチクル3に接触している。
請求項（抜粋）：
外枠フレーム、この外枠フレームの内側に配置された内枠フレーム、及び前記外枠フレームと前記内枠フレームとを連結固定する接続部材が設けられたペリクルフレームと、前記外枠フレームの一方の開口端部に張設されたペリクル膜と、を有し、前記外枠フレームの他方の開口端部は接着剤によりフォトマスクのパターン面に接合され、前記内枠フレームは前記ペリクル膜及び前記フォトマスクに接触していることを特徴とするペリクル。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/14 J
, H01L 21/30 502 P
