特許
J-GLOBAL ID：200903021942844665

マスクブランク用基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、及び反射型マスクブランクの製造方法、並びに反射型マスクの製造方法

発明者：
小池 今朝広

小池 今朝広 について


出願人/特許権者：
HOYA株式会社

HOYA株式会社 について


代理人 (1件)： 大塚 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-074777
公開番号（公開出願番号）：特開2009-226542
出願日： 2008年03月23日
公開日（公表日）： 2009年10月08日
要約：
【課題】研磨、洗浄後の基板表面の研磨砥粒の残留を確実に防止し、高平滑な基板表面が安定的に得られるマスクブランク用基板、この基板を用いた反射型マスクブランク及び反射型マスクを提供する。【解決手段】ガラス基板の表面に研磨パッドを接触させ、ガラス基板の表面に研磨砥粒を含む研磨液を供給し、ガラス基板と研磨パッドとを相対的に移動させてガラス基板の表面を研磨する研磨工程と、ガラス基板の表面を洗浄する洗浄工程とを有し、研磨砥粒はコロイダルシリカであって、研磨液のゼータ電位の極性と洗浄液のゼータ電位の極性とを一致させる。得られるマスクブランク用基板1上に多層反射膜2及び吸収体膜4を形成して反射型マスクブランク10とし、この反射型マスクブランク10における吸収体膜4をパターニングして吸収体パターンを形成して反射型マスク20とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ガラス基板の表面に研磨パッドを接触させ、前記ガラス基板の表面に研磨砥粒を含む研磨液を供給し、前記ガラス基板と前記研磨パッドとを相対的に移動させて前記ガラス基板の表面を研磨する研磨工程と、ガラス基板の表面を洗浄する洗浄工程とを有するマスクブランク用ガラス基板の製造方法であって、 前記研磨砥粒はコロイダルシリカであって、 前記研磨工程で使用する研磨液のゼータ電位の極性と、前記洗浄工程で使用する洗浄液のゼータ電位の極性とを一致させることを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法。
IPC (5件)：
B24B 37/00 ,  B24B 7/24 ,  G03F 1/14 ,  C03C 19/00 ,  C03C 23/00
FI (5件)：
B24B37/00 H ,  B24B7/24 E ,  G03F1/14 A ,  C03C19/00 Z ,  C03C23/00 A
Fターム (19件)：
2H095BC26 ,  3C043BB06 ,  3C043CC07 ,  3C043CC13 ,  3C043DD06 ,  3C043EE04 ,  3C058AA07 ,  3C058AB08 ,  3C058AC01 ,  3C058BA09 ,  3C058CA01 ,  3C058CA06 ,  3C058CB02 ,  3C058DA02 ,  3C058DA06 ,  4G059AA08 ,  4G059AB03 ,  4G059AB11 ,  4G059AC03
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (3件)

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