特許
J-GLOBAL ID:200903039793625382

基板の洗浄方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-241248
公開番号(公開出願番号):特開平8-107094
出願日: 1994年10月05日
公開日(公表日): 1996年04月23日
要約:
【要約】【目的】 この発明は基板に付着する微粒子を効率よく確実に洗浄除去することができるようにした基板の洗浄方法を提供することにある。【構成】 基板に付着した微粒子を洗浄液によって洗浄除去する洗浄方法において、上記基板と上記微粒子との等電点のうち、少なくとも上記微粒子の等電点以上のpH領域の洗浄液によって上記基板を洗浄することを特徴とする。
請求項(抜粋):
基板に付着した微粒子を洗浄液によって洗浄除去する洗浄方法において、上記基板と上記微粒子との等電点のうち、少なくとも上記微粒子の等電点以上のpH領域の洗浄液によって上記基板を洗浄することを特徴とする基板の洗浄方法。
IPC (3件):
H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 321 ,  B08B 3/08
引用特許:
審査官引用 (5件)
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