特許

J-GLOBAL ID：200903021974796018

水冷式ガストラップ装置

発明者： 柳川 秀宏
出願人/特許権者： 国際電気株式会社
代理人 (1件)： 守山 辰雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-028678
公開番号（公開出願番号）：特開平9-202972
出願日： 1996年01月23日
公開日（公表日）： 1997年08月05日
要約：

【要約】【課題】 水冷式ガストラップ装置におけるメンテナンスを容易にする。メンテナンスが容易で設計上の制約が少ない構造の水冷式ガストラップ装置を提供する。【解決手段】 排気配管の途中にガストラップ装置12を接続する。この装置12は、装置本体13の内部にカートリッジ14を着脱自在に挿入して構成する。高温排気ガスは排気配管11Aからカートリッジ14の捕集部材18内部に流れ込む。ガスは水冷パイプ20・ウオータジャケット13Cにより急冷され、捕集部材18内壁・水冷パイプ20外面に反応生成物Aが付着する。排気ガスは清浄化されて排出される。付着した反応生成物Aは捕集部材18・水冷パイプ20を清掃して除去する。清掃は、カートリッジ14全体を装置本体13の直管部13Aから抜き取って行う。水冷式ガストラップ装置のメンテナンス作業を従来に比較して格段に容易化でき、かつ、短時間で行える。

請求項（抜粋）：

筒状に形成されて内部をガスが通流する装置本体と、この装置本体に着脱自在に挿入されたカートリッジと、を備えた水冷式ガストラップ装置であって、上記カートリッジは、装置本体の内部を流れるガスを冷却する水冷パイプと、このガスを冷却することによって生成された生成物を捕集する捕集部材と、を有する水冷式ガストラップ装置。

IPC (2件)：

C23C 16/44 ,  H01L 21/205

FI (2件)：

C23C 16/44 E ,  H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-059002
  
• プラズマCVD装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-145469   出願人：住友金属鉱山株式会社, 株式会社ライムズ, 日本電子工業株式会社, 日本コーティングセンター株式会社
• 気相成長装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-033298   出願人：富士通株式会社