リソグラフィック投影装置のオフアキシレベリング

発明者： , , , , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-107375
公開番号（公開出願番号）：特開2000-323404
出願日： 2000年03月03日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
要約：

【要約】【課題】複数の基板テーブルまたはマスクテーブルがあるリソグラフィ投影装置に於いて、複数のステーションでこの基板またはマスクの高さを測定する装置間の原点を関係付ける必要をなくすること。【解決手段】基板Wを基板テーブルWTに装填してから、測定ステーション(図8の右)で、レベルセンサ10を使って、物理的参照面の垂直位置および基板表面の垂直位置ZLSを複数の点で測定し、並びにZ干渉計ZIFを使ってこの基板テーブルの垂直位置ZIFを同じ点で同時に測定し、基板表面高さ、ZWefer=ZLS+ZIFをマップにする。次に、この基板を坦持する基板テーブルを露出ステーション(図8の左)へ移し、物理的参照面の垂直位置を再び決定する。次に露出プロセス中に基板を正しい垂直位置に位置決めする際にこの高さマップを参照する。このプロセスは、マスクにも適用可能である。

請求項（抜粋）：

リソグラフィ投影装置であって:放射線の投影ビーム(PB)を供給するための放射線システム(LA、Ex、IN、CO);マスク(MA)を保持するためのマスクホルダを備える第1物体テーブル(MT);基板(W)を保持するための基板ホルダを備える、第2の、可動物体テーブル(WT);このマスクの被照射部分をこの基板の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL);および上記第2物体テーブルを、上記投影システムが上記マスク部分を上記基板上に結像に出来る露出ステーションと測定ステーションの間で動かすための位置決めシステム;を含む投影装置に於いて;上記第2物体テーブルがそれに固定された物理的参照面を有し、さらに投影装置が、上記測定ステーションに位置し、上記基板ホルダ上に保持された基板(W)の表面上の複数の点の、上記物理的参照面に関する、高さを測定しおよびその高さマップを作るように構成および配設された高さマップ作成手段;上記露出ステーションに位置し、上記第2物体テーブルを上記露出ステーションへ動かしてから、上記物理的参照面の上記基板表面に実質的に垂直な第1方向に於ける位置を測定するための位置測定手段;並びに上記目標部分の露出中に、上記高さマップおよび上記位置測定手段によって測定した上記位置に従って、少なくとも上記第1方向に於ける上記第2物体テーブルの位置を制御するように構成および配設された制御手段;を有することを特徴とする装置。

IPC (8件)：

H01L 21/027 , G01B 9/02 , G01B 11/00 , G01B 11/02 , G01B 11/25 , G01B 11/30 , G01B 11/30 101 , G03F 7/22

FI (8件)：

H01L 21/30 526 B , G01B 9/02 , G01B 11/00 G , G01B 11/02 Z , G01B 11/30 A , G01B 11/30 101 A , G03F 7/22 H , G01B 11/24 E

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開昭61-196532
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-310724 出願人：株式会社ニコン
時間を節約する高さ測定を用いた、基板にマスク・パターンを繰り返し投影する方法および装置
公報種別：公表公報出願番号：特願平11-533271 出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ

審査官引用 (4件)

特開昭61-196532
特開昭61-196532
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-310724 出願人：株式会社ニコン

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