特許
J-GLOBAL ID：200903001448729402
時間を節約する高さ測定を用いた、基板にマスク・パターンを繰り返し投影する方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-533271
公開番号（公開出願番号）：特表2001-513267
出願日： 1998年12月11日
公開日（公表日）： 2001年08月28日
要約：
【要約】リソグラフィ投影装置において、時間を節約する高さ測定法を用いる。投影ステーション105、108、111内でマスク129のパターンを第1基板120の領域に投影する間、第2基板121の領域の高さを測定ステーション133で測定する。測定ステーションでは、基板領域の高さおよび基板ホルダー113の高さを、それぞれ第1高さセンサー150および第2高さセンサー160によって測定し、基板領域の理想的高さに関連した基板ホルダーの高さを、各基板領域について求める。投影ステーションでは、第3高さセンサー180で基板ホルダー111の高さのみを制御する。第2および第3高さセンサーは、Z測定軸で拡張された複合XY干渉計システムの一部であることが好ましい。
請求項（抜粋）：
投影ビームおよび投影システムによって、放射線感応層を設けた基板の複数の領域にマスク・パターンを投影する方法で、基板を伴う基板ホルダーを投影ビーム中および投影システムの下に導入する前に、 投影ビームの軸に平行の方向で高さを測定することと、 基板ホルダーの基準面の高さを測定することと、 基板領域の高さと基板ホルダーの基準面の高さとの関係を確立することと、 この関係をメモリに保存することによって、各基板領域について基板の表面輪郭を判別し、基板を伴う基板ホルダーを、各基板領域の照明のために投影ビーム中に導入した後、基板ホルダーの基準面の高さを検査することにより、この領域の高さを調節する方法において、各基板領域の高さの測定にて、前記領域および第1高さセンサーを、投影ビームの軸に対して垂直の面で互いに対して移動させ、第2高さセンサーを、基板支持基準面の高さを測定するために使用し、該当する基板領域の理想的高さに関連する基板支持基準面の高さを、その後、計算して保存し、基板を投影ビーム中に導入した後、各基板領域のこの高さの値のみを第3高さセンサーで検査することを特徴とする方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 9/00 H
, H01L 21/30 526 A
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (7件)
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