特許
J-GLOBAL ID:200903022123620282
クリーンルーム内空間の汚染状態の評価方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
久保山 隆
, 中山 亨
, 榎本 雅之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-143578
公開番号(公開出願番号):特開2006-322716
出願日: 2005年05月17日
公開日(公表日): 2006年11月30日
要約:
【課題】 ホウ素化合物をサンプリングするに際して希酸性溶液を用いることなく、クリーンルーム内空間のホウ素化合物による汚染状態を簡便に評価する方法を提供すること。【解決手段】 クリーンルーム内空間ガスを、セルロース製パウダーを充填したカラムまたはセルロース製メンブレンフィルタを装着した濾過器に、通気することにより、該空間ガスに含まれるホウ素化合物を該セルロース製パウダーまたは該セルロース製メンブレンフィルタに吸着させ、次いで、吸着されたホウ素化合物を、該セルロース製パウダーまたは該セルロース製メンブレンフィルタから脱離させ、脱離したホウ素化合物を分析することを特徴とするクリーンルーム内空間の汚染状態の評価方法。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
クリーンルーム内空間ガスを、セルロース製パウダーを充填したカラムまたはセルロース製メンブレンフィルタを装着した濾過器に、通気することにより、該空間ガスに含まれるホウ素化合物を該セルロース製パウダーまたは該セルロース製メンブレンフィルタに吸着させ、次いで、吸着されたホウ素化合物を、該セルロース製パウダーまたは該セルロース製メンブレンフィルタから脱離させ、脱離したホウ素化合物を分析することを特徴とするクリーンルーム内空間の汚染状態の評価方法。
IPC (4件):
G01N 30/00
, B01J 20/24
, G01N 1/22
, G01N 33/00
FI (4件):
G01N30/00 E
, B01J20/24 A
, G01N1/22 L
, G01N33/00 C
Fターム (20件):
2G052AA03
, 2G052AB01
, 2G052AC13
, 2G052AD02
, 2G052AD46
, 2G052BA14
, 2G052BA21
, 2G052CA02
, 2G052CA12
, 2G052ED01
, 2G052ED07
, 2G052ED11
, 2G052GA24
, 2G052JA04
, 4G066AC02B
, 4G066BA03
, 4G066BA09
, 4G066CA21
, 4G066DA03
, 4G066EA20
引用特許:
引用文献:
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