特許
J-GLOBAL ID:200903022139783718

水素分離膜およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 吉田 研二 ,  石田 純
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-070626
公開番号(公開出願番号):特開2005-254161
出願日: 2004年03月12日
公開日(公表日): 2005年09月22日
要約:
【課題】耐熱性、耐水蒸気性に優れた水素分離膜を提供する。【解決手段】25重量%以上の純粋酸素と不活性ガスとからなる混合ガスと気化させたシリカ源とを用い、化学蒸着法によって多孔質基材の細孔を閉塞するようにシリカが製膜されていることを特徴とする水素分離膜およびその製造方法である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
25重量%以上の純粋酸素と不活性ガスとからなる混合ガスと気化させたシリカ源とを用い、化学蒸着法によって多孔質基材の細孔を閉塞するようにシリカが製膜されていることを特徴とする水素分離膜。
IPC (6件):
B01D71/02 ,  B01D53/22 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  C01B3/50 ,  C04B41/87
FI (6件):
B01D71/02 500 ,  B01D53/22 ,  B01D69/10 ,  B01D69/12 ,  C01B3/50 ,  C04B41/87 G
Fターム (16件):
4D006GA41 ,  4D006JB01 ,  4D006MA09 ,  4D006MA22 ,  4D006MB01 ,  4D006MB15 ,  4D006MB19 ,  4D006MC03X ,  4D006NA31 ,  4D006PA03 ,  4D006PB66 ,  4G140FA02 ,  4G140FB06 ,  4G140FC01 ,  4G140FD01 ,  4G140FE01
引用特許:
審査官引用 (5件)
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