プラズマ処理チャンバ内で開放プラズマを実質的に排除するためのフォーカスリング構成

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：五十嵐孝雄 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-557485
公開番号（公開出願番号）：特表2002-519860
出願日： 1999年06月22日
公開日（公表日）： 2002年07月02日
要約：

【要約】【課題】プラズマ処理チャンバのチャックを実質的に取り囲むように構成されたフォーカスリングアセンブリを提供すること。【解決手段】フォーカスリングアセンブリは、環状の誘電体と、環状の誘電体を取り囲む導電性のシールドとを備える。導電性のシールドは、プラズマ処理チャンバ内で電気的にアースされるように構成されており、環状の誘電体の外側に配置され、環状の誘電体の少なくとも一部を取り囲む筒状部を備える。導電性のシールドはさらに、筒状部と電気的に接触している内向きに突出したフランジ部を備える。フランジ部は、筒状部と交差する平面を形成する。フランジ部は、環状の誘電体内に埋め込まれる。

請求項（抜粋）：

プラズマ処理チャンバのチャックを実質的に取り囲むように構成されたフォーカスリングアセンブリであって、環状の誘電体と、前記プラズマ処理チャンバ内で電気的にアースされるように構成され、前記環状の誘電体を取り囲む導電性のシールドと、を備え、前記導電性のシールドは、前記環状の誘電体の外側に配置されて、前記環状の誘電体の少なくとも一部を取り囲む筒状部と、前記筒状部と電気的に接触し、前記筒状部と交差する平面を形成しており、前記環状の誘電体内に埋め込まれている、内向きに突出したフランジ部と、を備えるフォーカスリングアセンブリ。

IPC (5件)：

H01L 21/3065 , C23C 16/52 , H01J 37/32 , H01L 21/205 , H05H 1/46

FI (5件)：

C23C 16/52 , H01J 37/32 , H01L 21/205 , H05H 1/46 M , H01L 21/302 B

Fターム (17件)：

4K030DA04 , 4K030FA03 , 4K030GA02 , 4K030KA30 , 4K030KA45 , 4K030LA15 , 4K030LA18 , 5F004AA15 , 5F004BA20 , 5F004BB11 , 5F004BB29 , 5F045AA08 , 5F045BB14 , 5F045EB03 , 5F045EH06 , 5F045EH12 , 5F045EH19

引用特許：

審査官引用 (5件)

プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-145785 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
特開平4-279044
特開平2-268430

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