プラズマ溶射装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：工業技術院大阪工業技術研究所長 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-173008
公開番号（公開出願番号）：特開2001-003151
出願日： 1999年06月18日
公開日（公表日）： 2001年01月09日
要約：

【要約】【課題】未溶融粒子の発生を抑えることにより、原料粉末の利用効率(歩留まり)の向上と高性能の皮膜の生成を可能とするプラズマ溶射装置を提供する。【解決手段】溶射すべき方向に延びる軸線に沿って溶射用粉末原料を投入する原料投入ノズル1と、該軸線の周りに配置されたプラズマ形成手段2とを備え、該プラズマ形成手段は、陰極を備えたカソードトーチ21と、陽極を備えたアノードトーチ22とのプラズマトーチ対を2以上備え、これらカソードトーチ及びアノードトーチは、これらの陰極及び陽極間に前記軸線に沿うプラズマ流を形成するように該軸線を囲んで且つ相互の位置関係が前記原料投入方向の上流側及び下流側となるように配置されていることを特徴とするプラズマ溶射装置。

請求項（抜粋）：

溶射すべき方向に延びる軸線に沿って溶射用粉末原料を投入する原料投入ノズルと、該軸線の周りに配置されたプラズマ形成手段とを備え、該プラズマ形成手段は、陰極を備えたカソードトーチと、陽極を備えたアノードトーチとのプラズマトーチ対を2以上備え、これらカソードトーチ及びアノードトーチは、これらの陰極及び陽極間に前記軸線に沿うプラズマ流を形成するように該軸線を囲んで且つ相互の位置関係が前記原料投入方向の上流側及び下流側となるように配置されていることを特徴とするプラズマ溶射装置。

Fターム (3件)：

4K031DA04 , 4K031EA01 , 4K031EA12

引用特許：

出願人引用 (5件)

プラズマ溶射トーチ
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-326257 出願人：三菱重工業株式会社
プラズマ溶射方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-147625 出願人：小野田セメント株式会社
特開平4-333556

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