特許
J-GLOBAL ID:200903022290222302

帯電除去方法および装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉本 修司 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-279879
公開番号(公開出願番号):特開2000-113998
出願日: 1998年10月01日
公開日(公表日): 2000年04月21日
要約:
【要約】【課題】 真空雰囲気中で絶縁物上に載置された物体の帯電を、金属等他の物質を付着させることなく、除去できる帯電除去方法等を提供する。【解決手段】 真空雰囲気中で絶縁物2上に載置された物体1の帯電を、前記真空雰囲気に瞬時少量の気体を導入して除去する。
請求項(抜粋):
真空雰囲気中で絶縁物上に載置された物体の帯電を、前記真空雰囲気に瞬時少量の気体を導入して除去する帯電除去方法。
IPC (4件):
H05F 3/06 ,  B01J 3/00 ,  G01N 23/223 ,  G01N 1/00 101
FI (4件):
H05F 3/06 ,  B01J 3/00 J ,  G01N 23/223 ,  G01N 1/00 101 C
Fターム (21件):
2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001CA01 ,  2G001DA01 ,  2G001GA12 ,  2G001GA13 ,  2G001JA07 ,  2G001JA12 ,  2G001JA14 ,  2G001KA01 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001PA01 ,  2G001PA02 ,  2G001PA07 ,  2G001PA11 ,  2G001PA30 ,  2G001QA01 ,  5G067AA70 ,  5G067DA01 ,  5G067DA40
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開平3-243188
  • 真空処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-324697   出願人:富士通株式会社
  • 全反射蛍光X線分析装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-248067   出願人:住友電気工業株式会社
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