フォトマスク修正方法及びフォトマスク修正装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤巻正憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-160277
公開番号（公開出願番号）：特開2000-347387
出願日： 1999年06月07日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：

【要約】【課題】 LSI及び液晶等のパターンニングに使用するフォトマスクの黒欠陥をレーザ光線により、フォトマスク上に金属の残渣を残すことなく金属薄膜だけを除去し、フォトマスクを形成する基板の透過率を高くすることができるフォトマスク修正方法及びフォトマスク修正装置を提供する。【解決手段】レーザ光5のパルス幅が100ピコ秒以下で、繰り返しパルスエネルギを出力させることができるレーザ光源4から、転写用の長方形の可変スリット8を透過させ照射幅を狭くしたレーザ光5をフォトマスク10上に転写し、レーザ光5を照射しながら、フォトマスク10面内で転写像を可変スリット8の位置又はフォトマスク10を設置したXYZステージ11を移動することによってフォトマスク10の黒欠陥部を除去する。

請求項（抜粋）：

フォトマスクの黒欠陥部にレーザ光を照射することにより前記黒欠陥部を除去するフォトマスク修正方法において、長方形の可変スリットを透過させた前記レーザ光を前記フォトマスク上に転写し、前記転写した転写像を前記フォトマスク面内で移動させながら前記レーザ光を照射することを特徴とするフォトマスク修正方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , B23K 26/00 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/08 V , B23K 26/00 G , H01L 21/30 502 W

Fターム (9件)：

2H095BD32 , 2H095BD34 , 4E068CA03 , 4E068CB05 , 4E068CD10 , 4E068CE02 , 4E068CE04 , 4E068CK01 , 4E068DA00

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平4-271347
マスク上の欠陥を修理する方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-006995 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
除去伝達像形成装置および方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-263913 出願人：ミネソタマイニングアンドマニュファクチャリングカンパニー

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