特許
J-GLOBAL ID：200903022321076032

偽造防止用積層構造体

発明者：
高橋 弘毅

高橋 弘毅 について

, 
兼岩 秀樹

兼岩 秀樹 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 飯田 敏三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-157696
公開番号（公開出願番号）：特開2009-300923
出願日： 2008年06月17日
公開日（公表日）： 2009年12月24日
要約：
【課題】高解像度で耐熱性に優れ、偽造も困難である認証画像を示すとともに、流用が困難である偽造防止用積層構造体の提供。【解決手段】粘着強度が異なる領域を複数有するパターン化粘着層又は応力によって光学異方性を発現する層などの光学的応力感応層、及び複屈折性が異なる領域をパターン状に有するパターン化光学異方性層を含む積層構造体。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
光学的応力感応層と、複屈折性の異なる領域をパターン状に有するパターン化光学異方性層とを含む積層構造体。
IPC (4件)：
G02B 5/30 ,  B42D 15/10 ,  G09F 3/02 ,  B32B 7/02
FI (4件)：
G02B5/30 ,  B42D15/10 501G ,  G09F3/02 W ,  B32B7/02 103
Fターム (43件)：
2C005HA01 ,  2C005JA18 ,  2C005JA19 ,  2C005JB08 ,  2C005JB09 ,  2C005KA02 ,  2C005KA05 ,  2C005KA37 ,  2C005LA14 ,  2C005LA20 ,  2H149AA28 ,  2H149AB13 ,  2H149DA02 ,  2H149DA12 ,  2H149DB02 ,  2H149FA03Z ,  2H149FA33Y ,  2H149FA51Y ,  2H149FA58Y ,  2H149FA66 ,  2H149FC07 ,  4F100AK41 ,  4F100AR00A ,  4F100AR00C ,  4F100AR00D ,  4F100AR00E ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA26 ,  4F100BA42 ,  4F100CB05D ,  4F100EJ42B ,  4F100EJ52B ,  4F100GB90 ,  4F100JB14B ,  4F100JK05A ,  4F100JK06A ,  4F100JL13D ,  4F100JL14E ,  4F100JN00A ,  4F100JN06C ,  4F100JN18B
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (7件)
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