特許
J-GLOBAL ID:200903092544460622
複屈折パターンを有する物品の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-299181
公開番号(公開出願番号):特開2009-069793
出願日: 2007年11月19日
公開日(公表日): 2009年04月02日
要約:
【課題】高解像度で耐熱性に優れた複屈折パターンを有する物品の簡便な作製に有用な方法及び材料を提供する。【解決手段】少なくとも次の[1]〜[3]の工程をこの順に含む複屈折パターンを有する物品の製造方法:[1]高分子を含む光学異方性層を含み、該光学異方性層は、20°Cより高い温度域に面内レターデーションが20°C時のレターデーションの30%以下となるレターデーション消失温度を有し、かつ該レターデーション消失温度は露光によって上昇する複屈折パターン作製材料を用意する工程;[2]該複屈折パターン作製材料にパターン露光を行う工程;[3]工程2後に得られる積層体を50°C以上400°C以下に加熱する工程。【選択図】図4
請求項(抜粋):
少なくとも次の[1]〜[3]の工程をこの順に含む複屈折パターンを有する物品の製造方法:
[1]高分子を含む光学異方性層を含み、
該光学異方性層は、20°Cより高い温度域に面内レターデーションが20°C時のレターデーションの30%以下となるレターデーション消失温度を有し、かつ該レターデーション消失温度は露光によって上昇する
複屈折パターン作製材料
を用意する工程;
[2]該複屈折パターン作製材料にパターン露光を行う工程;
[3]工程2後に得られる積層体を50°C以上400°C以下に加熱する工程。
IPC (3件):
G02B 5/30
, G02F 1/133
, B42D 15/10
FI (5件):
G02B5/30
, G02F1/13363
, B42D15/10 501G
, B42D15/10 531B
, B42D15/10 501P
Fターム (36件):
2C005HA02
, 2C005HA06
, 2C005HA10
, 2C005HB10
, 2C005HB20
, 2C005JA18
, 2C005JA19
, 2C005JB08
, 2C005JB09
, 2C005KA02
, 2H049BA06
, 2H049BA25
, 2H049BA42
, 2H049BB03
, 2H049BB42
, 2H049BC03
, 2H049BC05
, 2H049BC08
, 2H049BC09
, 2H049BC21
, 2H049BC22
, 2H091FA02Y
, 2H091FA11X
, 2H091FA11Z
, 2H091FA14Y
, 2H091FA35Y
, 2H091FB02
, 2H091FC10
, 2H091FC22
, 2H091FC23
, 2H091GA01
, 2H091GA13
, 2H091GA17
, 2H091KA02
, 2H091LA11
, 2H091LA30
引用特許:
出願人引用 (19件)
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審査官引用 (15件)
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引用文献:
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