特許
J-GLOBAL ID:200903092544460622

複屈折パターンを有する物品の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-299181
公開番号(公開出願番号):特開2009-069793
出願日: 2007年11月19日
公開日(公表日): 2009年04月02日
要約:
【課題】高解像度で耐熱性に優れた複屈折パターンを有する物品の簡便な作製に有用な方法及び材料を提供する。【解決手段】少なくとも次の[1]〜[3]の工程をこの順に含む複屈折パターンを有する物品の製造方法:[1]高分子を含む光学異方性層を含み、該光学異方性層は、20°Cより高い温度域に面内レターデーションが20°C時のレターデーションの30%以下となるレターデーション消失温度を有し、かつ該レターデーション消失温度は露光によって上昇する複屈折パターン作製材料を用意する工程;[2]該複屈折パターン作製材料にパターン露光を行う工程;[3]工程2後に得られる積層体を50°C以上400°C以下に加熱する工程。【選択図】図4
請求項(抜粋):
少なくとも次の[1]〜[3]の工程をこの順に含む複屈折パターンを有する物品の製造方法: [1]高分子を含む光学異方性層を含み、 該光学異方性層は、20°Cより高い温度域に面内レターデーションが20°C時のレターデーションの30%以下となるレターデーション消失温度を有し、かつ該レターデーション消失温度は露光によって上昇する 複屈折パターン作製材料 を用意する工程; [2]該複屈折パターン作製材料にパターン露光を行う工程; [3]工程2後に得られる積層体を50°C以上400°C以下に加熱する工程。
IPC (3件):
G02B 5/30 ,  G02F 1/133 ,  B42D 15/10
FI (5件):
G02B5/30 ,  G02F1/13363 ,  B42D15/10 501G ,  B42D15/10 531B ,  B42D15/10 501P
Fターム (36件):
2C005HA02 ,  2C005HA06 ,  2C005HA10 ,  2C005HB10 ,  2C005HB20 ,  2C005JA18 ,  2C005JA19 ,  2C005JB08 ,  2C005JB09 ,  2C005KA02 ,  2H049BA06 ,  2H049BA25 ,  2H049BA42 ,  2H049BB03 ,  2H049BB42 ,  2H049BC03 ,  2H049BC05 ,  2H049BC08 ,  2H049BC09 ,  2H049BC21 ,  2H049BC22 ,  2H091FA02Y ,  2H091FA11X ,  2H091FA11Z ,  2H091FA14Y ,  2H091FA35Y ,  2H091FB02 ,  2H091FC10 ,  2H091FC22 ,  2H091FC23 ,  2H091GA01 ,  2H091GA13 ,  2H091GA17 ,  2H091KA02 ,  2H091LA11 ,  2H091LA30
引用特許:
出願人引用 (19件)
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審査官引用 (15件)
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引用文献:
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