特許
J-GLOBAL ID:200903022350761291
露光用ガスレーザ装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (2件):
木村 高久
, 小幡 義之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-376154
公開番号(公開出願番号):特開2005-142306
出願日: 2003年11月05日
公開日(公表日): 2005年06月02日
要約:
【課題】 露光装置等の光学素子へ与えるダメージが小さく、しかも、音響波の影響によるレーザビーム品質の劣化が小さい高繰り返しの露光用ガスレーザ装置を提供すること。【解決手段】 レーザ光L1を放出するレーザ100と、レーザ光L2を放出するレーザ300とを含む露光用ガスレーザ装置において、ビーム合成器6によりレーザ光L1、L2の進行方向を略一致させ、レーザ100とレーザ300の動作を交互に行うとともに、各レーザ光L1、L2のパルスエネルギーを露光装置の光学部品にダメージを殆ど与えない最大パルスエネルギー以下となるように制御するように構成する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
高電圧に充電される第1のコンデンサと、第1のスイッチと、この第1のスイッチがオンとなったとき上記第1のコンデンサに蓄えられた電荷をパルス圧縮して出力する第1の磁気パルス圧縮回路とを含む第1の発振用高電圧パルス発生器と、
レーザガスが封入された第1のレーザチャンバと、この第1のレーザチャンバ内に配置され、上記第1の高電圧パルス発生器に含まれる第1の磁気パルス圧縮回路の出力端に接続される第1の一対の放電電極と、レーザ光を狭帯域化する第1の狭帯域化モジュールを有するレーザ共振器とを含む第1の放電励起ガスレーザと、
高電圧に充電される第2のコンデンサと、第2のスイッチと、この第2のスイッチがオンとなったとき上記第2のコンデンサに蓄えられた電荷をパルス圧縮して出力する第2の磁気パルス圧縮回路とを含む第2の発振用高電圧パルス発生器と、
レーザガスが封入された第2のレーザチャンバと、この第2のレーザチャンバ内に配置され、上記第2の高電圧パルス発生器に含まれる第2の磁気パルス圧縮回路の出力端に接続される第2の一対の放電電極と、レーザ光を狭帯域化する第2の狭帯域化モジュールを有するレーザ共振器とを含む第2の放電励起ガスレーザと、
上記第1のコンデンサおよび第2のコンデンサを充電する少なくとも1つの充電器と、
上記第1のレーザチャンバにレーザガスを充填し、また、排気する第1のレーザガス充填・排気手段と、
上記第2のレーザチャンバにレーザガスを充填し、また、排気する第2のレーザガス充填・排気手段と、
第1の放電励起ガスレーザから放出される第1のレーザ光の少なくともビーム品質をモニタする第1のモニタと、
第2の放電励起ガスレーザから放出される第2のレーザ光の少なくともビーム品質をモニタする第2のモニタと、
上記第1のレーザ光の進行方向と第2のレーザ光の進行方向とを略一致させるビーム合成器と、
制御手段とからなり、
上記制御手段は、露光装置からの発光指令に基づき、上記第1のスイッチおよび第2のスイッチを交互に動作させるとともに、
上記第1のモニタで検出したビーム品質に相当する信号に基づき、上記第1のレーザ光のパルスエネルギーが所定のエネルギーとなるように、第1のコンデンサの充電電圧、上記第1のレーザガス充填・排気手段の動作による第1のレーザチャンバ内のレーザガス条件の少なくとも1つを制御し、
上記第2のモニタで検出したビーム品質に相当する信号に基づき、上記第2のレーザ光のパルスエネルギーが所定のエネルギーとなるように、第2のコンデンサの充電電圧、上記第2のレーザガス充填・排気手段の動作による第2のレーザチャンバ内のレーザガス条件の少なくとも1つを制御する
ことを特徴とする露光用ガスレーザ装置。
IPC (5件):
H01S3/104
, H01L21/027
, H01S3/00
, H01S3/036
, H01S3/23
FI (5件):
H01S3/104
, H01S3/00 B
, H01S3/23
, H01L21/30 527
, H01S3/03 J
Fターム (22件):
5F046CA04
, 5F046CA10
, 5F046CB02
, 5F046CB22
, 5F071AA04
, 5F071AA06
, 5F071DD04
, 5F071EE04
, 5F071GG05
, 5F071HH02
, 5F071JJ03
, 5F071JJ07
, 5F072AA06
, 5F072GG05
, 5F072JJ04
, 5F072JJ07
, 5F072KK05
, 5F072KK15
, 5F072KK30
, 5F072MM07
, 5F072SS06
, 5F072YY09
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (1件)
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