特許
J-GLOBAL ID:200903022379790479
製品用X線ターゲット
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
山本 秀策
, 安村 高明
, 森下 夏樹
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-542181
公開番号(公開出願番号):特表2004-514120
出願日: 2001年10月30日
公開日(公表日): 2004年05月13日
要約:
電子源(10)は自由電子ビームを生成し、この電子が、真空チャンバを通って加速され、そしてターゲット(34)に衝突する。このターゲットは、高エネルギー電子により衝撃を与えられた場合にX線放射するために、高Z材料(例えば、タングステンまたはタンタル)の複数の層を有する。このターゲット層は、1つの層で停止しない電子が次の層へと通過するような順序で配置される。このターゲット層は、熱伝導性の低Z金属基板(40)(例えば、アルミニウムまたは銅)の層の間に挟まれる。中空通路(42)が基板(40)に穿孔されて、冷却液(例えば、水)をその中空通路(42)内に流し得、そして不要な熱をターゲットから除去し得る。この通路は、基板内にあり、水をターゲット材料から離しておく。これにより、ターゲットの酸化および腐食を低減し、そして寿命を延ばす。
請求項(抜粋):
製品照射システムであって、以下:
走査ホーン(46)を通過させて製品を運搬する、コンベヤ(18);
電子を加速する、電子加速器(10);
該加速器から該走査ホーンへ該加速された電子を運搬する、真空路;
該加速された電子を、該走査ホーンを横切って掃引する、電子掃引システム(44);
該走査ホーン上の熱伝導性材料のフェイスプレート(40);
該加速された電子をX線に変換するための、アノードターゲット(34)、
を備え、
該アノードターゲットは、該フェイスプレートに取り付けられており、
該フェイスプレート(40)は、熱伝導性材料からなり;そして
冷却液チャネル(42)が該フェイスプレートにおいて規定されている、システム。
IPC (8件):
G21K5/08
, A23L3/26
, A61L2/08
, B01J19/12
, G21K5/00
, G21K5/02
, H01J35/08
, H01J35/12
FI (9件):
G21K5/08 C
, G21K5/08 X
, A23L3/26
, A61L2/08
, B01J19/12 C
, G21K5/00 W
, G21K5/02 X
, H01J35/08 F
, H01J35/12
Fターム (24件):
4B021LP10
, 4B021LT01
, 4C058AA12
, 4C058BB06
, 4C058CC04
, 4C058DD07
, 4C058DD12
, 4C058DD16
, 4C058EE23
, 4C058KK03
, 4C058KK25
, 4C058KK32
, 4G075AA22
, 4G075AA61
, 4G075BA05
, 4G075BA10
, 4G075CA03
, 4G075CA38
, 4G075DA02
, 4G075EB31
, 4G075ED11
, 4G075FB02
, 4G075FC11
, 4G075FC20
引用特許:
審査官引用 (10件)
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遷移放射型X線発生装置用標的
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-056562
出願人:日本電信電話株式会社
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特開昭56-003956
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特開昭56-003956
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特開昭59-221948
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X線管及びX線発生装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-139878
出願人:株式会社島津製作所
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特開平3-029248
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X線管ターゲットおよびその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-280396
出願人:理学電機株式会社
-
中性子源固体ターゲット
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-038947
出願人:株式会社日立製作所
-
マイクロX線ターゲット
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-203412
出願人:石川島播磨重工業株式会社
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特開平2-216495
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