プラズマ処理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井上学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-177116
公開番号（公開出願番号）：特開2006-351887
出願日： 2005年06月17日
公開日（公表日）： 2006年12月28日
要約：

【課題】処理を高精度に行うことができるプラズマ処理装置またはプラズマ処理方法を提供する。【解決手段】真空容器内に配置されプラズマが形成される処理室と、この処理室内の下部に配置されその上面に処理対象の試料が載置される試料台と、この試料台の内側に配置され前記試料の表面の電位を調節するための第1の高周波電力が印加される電極と、前記試料台の内側に配置され内部を熱交換媒体が通流する通路と、この通路内を通流する前記冷媒の温度を調節する制御装置とを備え、前記第1の高周波電力を印加しつつ前記処理室内に形成されたプラズマを用いて前記試料を処理するプラズマ処理装置であって、前記制御装置が前記第1の高周波電力の印加前にこの高周波電力の情報に基づいて予め定められた値となるように前記熱交換媒体の温度の調節を開始する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

真空容器内に配置されプラズマが形成される処理室と、この処理室内の下部に配置されその上面に処理対象の試料が載置される試料台と、この試料台の内側に配置され前記試料の表面の電位を調節するための第1の高周波電力が印加される電極と、前記試料台の内側に配置され内部を熱交換媒体が通流する通路と、この通路内を通流する前記冷媒の温度を調節する制御装置とを備え、前記第1の高周波電力を印加しつつ前記処理室内に形成されたプラズマを用いて前記試料を処理するプラズマ処理装置であって、前記制御装置が前記第1の高周波電力の印加前にこの高周波電力の情報に基づいて予め定められた値となるように前記熱交換媒体の温度の調節を開始するプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/306 , C23C 16/46 , H05H 1/46

FI (3件)：

H01L21/302 101G , C23C16/46 , H05H1/46 A

Fターム (16件)：

4K030FA01 , 4K030HA12 , 4K030JA16 , 4K030KA20 , 4K030KA23 , 5F004BA14 , 5F004BB11 , 5F004BB25 , 5F004BB26 , 5F004BC03 , 5F004BD01 , 5F004CA02 , 5F004CA04 , 5F004CA06 , 5F004CA07 , 5F004CA09

引用特許：

出願人引用 (2件)

ウエハステ-ジおよびウエハ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-011473 出願人：株式会社日立製作所
印刷装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-284374 出願人：キヤノン株式会社

審査官引用 (5件)

特開平3-138383
特開平4-196319
処理装置およびその温度制御方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-212048 出願人：東京エレクトロン株式会社

全件表示

前のページに戻る