特許
J-GLOBAL ID：200903093915231296

処理装置およびその温度制御方法

発明者：
廣岡 隆明

廣岡 隆明 について

, 
古屋 正男

古屋 正男 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 亀谷 美明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-212048
公開番号（公開出願番号）：特開2001-044176
出願日： 1999年07月27日
公開日（公表日）： 2001年02月16日
要約：
【要約】【課題】 被処理体の温度を一定に維持しながら処理を行うことが可能な処理装置およびその温度制御方法を提供する。【解決手段】 エッチング装置100の処理室104内の下部電極106に内装された冷媒循環路108には,冷媒タンク124から冷媒CW1が冷媒供給管132を介して送られ,循環後は冷媒排出管136を介して冷却器138で冷却された後,冷媒タンク124に戻される。冷媒供給管132と冷媒排出管136に介装された第1〜第4温度センサTh1〜Th4は,各々送り温度,入口温度,出口温度,戻り温度を検出する。下部電極106に印加する高周波の電力値から求めたウェハWの熱量から目標差分値を求める。処理時は,入口温度と出口温度との実測差分値を目標差分値に追随させ,戻り温度がウェハWの設定温度から目標差分値を減算した目標戻り温度に追随するように冷媒CW1を温調する。
請求項（抜粋）：
冷媒循環路を備えた載置台を処理室内に有するとともに,前記冷媒循環路を循環する冷媒の熱量制御および/または流量制御を行う温調回路を備えた処理装置の温度制御方法であって:前記冷媒循環路の入口温度と出口温度の実測差分値に基づいて,前記冷媒の熱量制御および/または流量制御を行うことにより,前記載置台の温度制御を行うことを特徴とする,処理装置の温度制御方法。
IPC (2件)：
H01L 21/3065 ,  F25D 17/02 303
FI (2件)：
H01L 21/302 C ,  F25D 17/02 303
Fターム (3件)：
5F004BA04 ,  5F004BB25 ,  5F004CA04
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (8件)
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