特許
J-GLOBAL ID：200903022562376649
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
稲岡 耕作 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-349341
公開番号（公開出願番号）：特開2001-167900
出願日： 1999年12月08日
公開日（公表日）： 2001年06月22日
要約：
【要約】【課題】被処理物に均一なプラズマ処理を施すことができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】処理チャンバ1の上部に設けられた誘電体部材2は、その下面を上方に凹湾曲させることにより、周縁部の厚みDeが中央部の厚みDcよりも大きくされている。【効果】処理チャンバ1の側壁付近でプラズマ励起のために消費されるマイクロ波電力量を、処理チャンバ1の中央部で消費されるマイクロ波電力量よりも大きくすることができる。これにより、処理チャンバ1の側壁付近においてもマイクロ波の遮蔽に十分な電子密度を確保することができ、プラズマ励起面において処理ガスの安定なプラズマを均一に発生させることができる。
請求項（抜粋）：
被処理物および処理ガスが収容される処理空間にマイクロ波放射アンテナからマイクロ波を放射して、前記マイクロ波放射アンテナのマイクロ波放射面から所定距離だけ離れたプラズマ励起面でプラズマを励起し、その励起したプラズマを用いた処理を被処理物に施すプラズマ処理装置であって、マイクロ波透過性を有する誘電体材料で形成され、前記マイクロ波放射アンテナのマイクロ波放射面に対向して配置されて、マイクロ波の波長を距離単位として表す前記マイクロ波放射面と前記プラズマ励起面との間隔を部分的に調整する間隔調整部材を含むことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H05H 1/46 B
, H01L 21/302 B
5F004AA01
, 5F004BA06
, 5F004BB14
, 5F004BB18
, 5F004BD01
, 5F004BD04
, 5F004BD07
, 5F004DA00
, 5F004DA04
, 5F004DA23
, 5F004DA24
, 5F004DA25
, 5F004DA26
