特許

J-GLOBAL ID：200903022700035190

薄膜磁気ヘッド及びその製造方法、並びにそれを搭載した磁気ディスク装置

発明者： 工藤 一恵 ,  岡田 泰行 ,  府山 盛明 ,  丸山 洋治 ,  及川 玄
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-352533
公開番号（公開出願番号）：特開2003-157509
出願日： 2001年11月19日
公開日（公表日）： 2003年05月30日
要約：

【要約】【課題】 高保磁力媒体に十分書きこめるだけの磁界がだせるような、高記録密度対応の薄膜磁気ヘッドを提供する。【解決手段】 下部磁極と、下部磁極と対向して設けられた上部磁極と、下部磁極と上部磁極との間に設けられた磁気ギャップ膜5とを備える磁気ヘッドにおいて、上部磁極は、磁気ギャップ膜5と対向する側にスパッタ法により成膜された第1の磁性膜6と、第1の磁性膜6上にめっき法により成膜された第2の磁性膜7とを備え、第1の磁性膜6の飽和磁束密度は、第2の磁性膜7の飽和磁束密度より大きいことを特徴とする。以上のように構成される薄膜磁気ヘッドは、磁気コアが安定に形成されているので、より強い磁界を発生することが可能である。

請求項（抜粋）：

下部磁極と、該下部磁極と対向して設けられた上部磁極と、該下部磁極と該上部磁極との間に設けられた磁気ギャップ膜とを備える磁気ヘッドにおいて、該上部磁極は、磁気ギャップ膜と対向する側にスパッタ法により成膜された第1の磁性膜と、該第1の磁性膜上にめっき法により成膜された第2の磁性膜とを備え、該第1の磁性膜の飽和磁束密度は、第2の磁性膜の飽和磁束密度より大きいことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。

Fターム (6件)：

5D033BA03 ,  5D033BA08 ,  5D033CA01 ,  5D033DA03 ,  5D033DA04 ,  5D033DA31

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 磁気デイスク装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-232965   出願人：株式会社日立製作所
• 軟磁性合金めっき薄膜の製造方法、軟磁性合金めっき薄膜、並びに、薄膜磁気ヘッド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-008452   出願人：リードライト・エスエムアイ株式会社
• 軟磁性合金、軟磁性薄膜および多層膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-166406   出願人：ティーディーケイ株式会社, 宮崎照宣
• 薄膜磁気ヘッド及び磁気記録再生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-244756   出願人：株式会社日立製作所