特許
J-GLOBAL ID：200903022762358092
レジスト被膜の製造方法及び水洗用液
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
廣江 武典
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-010397
公開番号（公開出願番号）：特開2000-208904
出願日： 1999年01月19日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
要約：
【要約】【課題】 プリント配線板の絶縁抵抗が低下する虞のないレジスト被膜の製造方法及び水洗用液を提供する。【解決手段】 導体パターン3の表面に塗布した液体レジスト4を露光し、アルカリ現像・水洗・乾燥をした後、熱硬化するレジスト被膜の製造方法において、アルカリ現像後の水洗用液のCaイオン濃度を17〜20mg/Lにした。導体パターンの表面に塗布した液体レジストを露光しアルカリ現像後、水洗に用いる水洗用液であって、Caイオン濃度が17〜20mg/Lである。
請求項（抜粋）：
導体パターンの表面に塗布した液体レジストを露光し、アルカリ現像・水洗・乾燥をした後、熱硬化するレジスト被膜の製造方法において、アルカリ現像後の水洗用液のCaイオン濃度を17〜20mg/Lにしたことを特徴とするレジスト被膜の製造方法。
Fターム (7件)：
5E314AA25
, 5E314AA27
, 5E314CC06
, 5E314DD06
, 5E314DD07
, 5E314FF01
, 5E314GG03
