特許

J-GLOBAL ID：200903022822850706

機能性有機薄膜の製造方法、およびそれを用いた有機電子デバイスの製造方法、ならびにそれを用いた表示装置の製造方法

発明者： 小川 一文
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 大前 要
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-308400
公開番号（公開出願番号）：特開2002-115079
出願日： 2000年10月06日
公開日（公表日）： 2002年04月19日
要約：

【要約】【課題】微小面積であっても、精度の高い機能性有機薄膜を製造する方法を提供する。【解決手段】基材表面の所定部分に共有結合で固定されてなる機能性有機薄膜の製造方法であって、前記基材表面の所定部分(または所定部分を除く部分)に、活性水素露出化処理(または活性水素除去処理)を施して、所定部分を、その所定部分を除く部分よりも露出活性水素密度が高い領域にする前処理工程と、前記露出活性水素密度が高い領域に、活性水素に反応しうる官能基と機能性官能基とを有する化合物を接触させて、この化合物と上記領域内の活性水素とを反応させ、上記基材表面の所定部分に機能性有機薄膜を形成する膜形成工程とを備えるようにした。

請求項（抜粋）：

基材表面の所定部分に共有結合で固定されてなる機能性有機薄膜を製造する方法であって、前記基材表面の所定部分に活性水素露出化処理を施して、その所定部分を、所定部分を除く部分よりも露出活性水素密度が高い領域にする前処理工程と、前記露出活性水素密度が高い領域に、活性水素に反応しうる官能基と機能性官能基とを有する化合物を接触させて、この化合物と上記領域内の活性水素とを反応させ、上記基材表面の所定部分に共有結合で固定されてなる機能性有機薄膜を形成する膜形成工程と、を備えたことを特徴とする機能性有機薄膜の製造方法。

IPC (8件)：

C23C 26/00 ,  G02F 1/1368 ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 365 ,  H01L 51/00 ,  H01L 29/786 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/12

FI (8件)：

C23C 26/00 A ,  G02F 1/1368 ,  G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 365 Z ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/12 B ,  H01L 29/28 ,  H01L 29/78 618 B

Fターム (51件)：

2H092JA24 ,  2H092KA09 ,  2H092MA02 ,  2H092MA08 ,  2H092MA22 ,  2H092MA30 ,  2H092PA04 ,  2H092PA08 ,  3K007AB04 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007CA01 ,  3K007DA01 ,  3K007FA01 ,  4K044AA01 ,  4K044AA12 ,  4K044AA13 ,  4K044AA16 ,  4K044BA21 ,  4K044CA04 ,  4K044CA53 ,  5C094AA05 ,  5C094AA43 ,  5C094BA03 ,  5C094BA12 ,  5C094BA27 ,  5C094BA43 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094DA13 ,  5C094DB04 ,  5C094EB02 ,  5C094ED03 ,  5C094FA01 ,  5C094FB01 ,  5C094FB14 ,  5C094GB10 ,  5C094JA08 ,  5F110BB01 ,  5F110CC07 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110DD13 ,  5F110DD14 ,  5F110EE03 ,  5F110FF01 ,  5F110GG05 ,  5F110GG32 ,  5F110GG42 ,  5F110GG57 ,  5F110HK02

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 防汚性吸着膜及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-337318   出願人：松下電器産業株式会社