特許

J-GLOBAL ID：200903022836350838

レジスト用現像液組成物およびレジストパターンの形成方法

発明者： 鷲尾 泰史 ,  斎藤 宏二
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-184708
公開番号（公開出願番号）：特開2005-017857
出願日： 2003年06月27日
公開日（公表日）： 2005年01月20日
要約：

【課題】溶解速度が速い(現像感度が高い)、レジスト用現像液組成物と、これを用いたレジストパターンの形成方法を提供する。【解決手段】有機第四級アンモニウム塩基を主剤とし、界面活性剤を含むレジスト用現像液組成物において、前記界面活性剤が、下記一般式(I)で示される陰イオン性界面活性剤を含むことを特徴とするレジスト用現像液組成物。【化1】(式中のR1及びR2は少なくとも1つが炭素数5〜18のアルキル基またはアルコキシ基で、残りが水素原子、炭素数5〜18のアルキル基またはアルコキシ基であり、R3、R4及びR5は少なくとも1つが下記一般式(II)【化2】(Mは金属原子である。)で表される基であり、、残りが水素原子、または前記一般式(II)で表される基である)【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

有機第四級アンモニウム塩基を主剤とし、界面活性剤を含むレジスト用現像液組成物において、 前記界面活性剤が、下記一般式(I)で示される陰イオン性界面活性剤を含むことを特徴とするレジスト用現像液組成物。

IPC (2件)：

G03F7/32 ,  H01L21/027

FI (2件)：

G03F7/32 ,  H01L21/30 569E

Fターム (7件)：

2H096AA25 ,  2H096BA01 ,  2H096BA09 ,  2H096DA01 ,  2H096GA09 ,  2H096GA11 ,  5F046LA12

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 着色感光性樹脂組成物用現像液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-159639   出願人：ヘキストインダストリー株式会社
• 特開平4-204454
  
• ポジ型感光性樹脂組成物用現像液及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-332449   出願人：住友ベークライト株式会社