特許
J-GLOBAL ID：200903022850872901

フェノール類の製造方法および装置

発明者：
八坂 直登

八坂 直登 について

, 
武田 徳幸

武田 徳幸 について


出願人/特許権者：
三井化学株式会社

三井化学株式会社 について


代理人 (1件)： 柳原 成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-170217
公開番号（公開出願番号）：特開平11-012211
出願日： 1997年06月26日
公開日（公表日）： 1999年01月19日
要約：
【要約】【課題】芳香族ハイドロパーオキサイドの開裂反応工程において、フェノール類を安定して高収率で得られる方法および装置を提供すること。【解決手段】反応器1,2で芳香族ハイドロパーオキサイドを酸触媒と接触させてフェノール類を生成させる酸開裂工程を含むフェノール類の製造方法において、酸開裂工程を構成する酸開裂反応器1,2の少なくとも一つの反応器の反応生成物中の残留芳香族ハイドロパーオキサイド濃度を、近赤外分析計20により800〜2500nmの近赤外線領域の吸光度から算出し、測定された濃度に基づいて、制御装置30により反応生成物中の残留芳香族ハイドロパーオキサイド濃度が所定の範囲に維持するように酸開裂工程の反応条件を制御することを特徴とするフェノール類の製造方法および該方法に使用される装置が提供される。
請求項（抜粋）：
芳香族ハイドロパーオキサイドを酸触媒と接触させてフェノール類を生成させる酸開裂工程を含むフェノール類の製造方法において、酸開裂工程を構成する酸開裂反応器の少なくとも一つの反応器の反応生成物中の残留芳香族ハイドロパーオキサイド濃度を800〜2500nmの近赤外線領域の吸光度から算出し、測定された濃度に基づいて、反応生成物中の残留芳香族ハイドロパーオキサイド濃度が所定の範囲に維持するように酸開裂工程の反応条件を制御することを特徴とするフェノール類の製造方法。
IPC (4件)：
C07C 39/04 ,  C07C 37/08 ,  C07C 39/00 ,  C07B 61/00 300
FI (4件)：
C07C 39/04 ,  C07C 37/08 ,  C07C 39/00 ,  C07B 61/00 300
引用特許：
審査官引用 (6件)
全件表示
引用文献：
審査官引用 (2件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM