CVD装置の汚染防止方法及びその装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：三好祥二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-180968
公開番号（公開出願番号）：特開平8-031743
出願日： 1994年07月08日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：

【要約】【目的】CVD装置に於いて、ウェーハ上へのパーティクルの付着を解決し、製品の歩留まりを向上させる。【構成】反応室が開放されている状態で、反応室内に不活性ガスを導入すると共に排気ラインにより排気し、反応室開放時にガス導入側から排気側に向かって気流を形成し、排気側からの逆拡散、開口部からの外気の流入を抑止する。

請求項（抜粋）：