特許
J-GLOBAL ID：200903022966028237
ハイドレート製造方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山田 恒光 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-057540
公開番号（公開出願番号）：特開2003-252804
出願日： 2002年03月04日
公開日（公表日）： 2003年09月10日
要約：
【要約】【課題】 ハイドレート形成ガスと水とを効率的に反応させて高濃度のハイドレートを小型の装置で高効率に製造できるようにする。【解決手段】 水とハイドレート形成ガスとを所定圧力下で接触させて水和反応によりハイドレートを製造する装置であって、水とハイドレート形成ガスとを混合する混合器3と混合器3からの混合流体を冷却してハイドレート形成流体を生成させる冷却器5とからなるハイドレート生成装置1と、ハイドレート生成装置1からのハイドレート形成流体を導入して水との比重差によりハイドレートを分離する分離槽2とを備える。
請求項（抜粋）：
水とハイドレート形成ガスとを所定圧力下で接触させて水和反応によりハイドレートを製造する方法であって、先ず水とハイドレート形成ガスとを混合し所定温度に冷却するハイドレート生成工程によりハイドレートを生成させ、続いてハイドレート形成流体を分離槽に導いてハイドレートを取り出すことを特徴とするハイドレート製造方法。
IPC (6件)：
C07C 5/00
, C07B 61/00
, C07B 63/02
, C07C 7/20
, C07C 9/04
, C10L 3/06
C07C 5/00
, C07B 61/00 C
, C07B 63/02 B
, C07C 7/20
, C07C 9/04
, C10L 3/00 A
4H006AA05
, 4H006AC90
, 4H006AD33
