特許
J-GLOBAL ID:200903023054592634

水素分離透過膜とその製造方法と水素生成分離装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 岩橋 文雄 ,  坂口 智康 ,  内藤 浩樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-082264
公開番号(公開出願番号):特開2004-202479
出願日: 2003年03月25日
公開日(公表日): 2004年07月22日
要約:
【課題】膜を貫通するピンホールにより水素以外の気体が水素分離透過膜を通過する可能性を少なくする。【解決手段】水素生成分離装置は、水素分離透過膜1により、炭化水素ガスと水蒸気とを高温で反応させて水素ガスを生成させる反応室2と、反応室2で生成され水素分離透過膜1を透過した高純度の水素ガスが流出する分離室3とに区画したものである。水素分離透過膜1は、体心立方構造を有する高融点の遷移金属であるTaからなり2層積層されたTa層4と、この複数層積層されたTa層の両面に設けられたPd層5a,5bとからなる多層構造の膜であり、Pd層5a,5bは、多層構造の膜の最外層にのみ存在する。Pd層5a,5bとTa層4とは拡散接合され、この拡散接合された多層構造の膜は圧延されている。反応室2に露出する側のPd層5aの厚さは、分離室3に露出する側のPd層5bの厚さより厚くしてある。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
水素透過性能の高い金属からなり複数積層された金属層と、前記複数積層された金属層の両面に設けられたPd層またはPd合金層とからなる多層構造の水素分離透過膜。
IPC (4件):
B01D71/02 ,  B01D53/22 ,  B01D69/12 ,  C01B3/56
FI (4件):
B01D71/02 500 ,  B01D53/22 ,  B01D69/12 ,  C01B3/56 Z
Fターム (22件):
4D006GA41 ,  4D006HA42 ,  4D006JA70Z ,  4D006MA03 ,  4D006MA07 ,  4D006MA08 ,  4D006MA31 ,  4D006MB03 ,  4D006MC02X ,  4D006NA45 ,  4D006NA47 ,  4D006NA54 ,  4D006PA01 ,  4D006PB18 ,  4D006PB65 ,  4D006PB66 ,  4D006PB68 ,  4D006PC69 ,  4D006PC80 ,  4G140FA02 ,  4G140FC01 ,  4G140FE01
引用特許:
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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