特許
J-GLOBAL ID：200903023086037993

露光システム、走査型露光装置及び露光方法

発明者：
白石 健一

白石 健一 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-022493
公開番号（公開出願番号）：特開2004-235460
出願日： 2003年01月30日
公開日（公表日）： 2004年08月19日
要約：
【課題】線幅測定の遅延に起因した線幅不良のウエハの製造を減少させる露光システムを提供する。【解決手段】マスクのパターンを基板Wに露光する露光装置11と、露光装置11とインライン化されており、かつ基板Wに形成されたパターンの線幅情報をスキャテロメトリ技術を用いて測定する線幅測定器12と、線幅測定器12からのデータを用いて露光装置11の露光条件パラメータを補正する補正装置13とを有するようにした。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
マスクのパターンを基板に露光する露光装置と、該露光装置とインライン化されており、かつ前記基板に形成されたパターンの線幅情報をスキャテロメトリ技術を用いて測定する線幅測定器と、該線幅測定器からのデータを用いて前記露光装置の露光条件パラメータを補正する補正装置とを有することを特徴とする露光システム。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (4件)：
H01L21/30 516C ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 502V ,  H01L21/30 518
Fターム (8件)：
5F046AA28 ,  5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046DA02 ,  5F046DA13 ,  5F046DA14 ,  5F046DD06
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-060953   出願人：東京エレクトロン株式会社
  • フォトリソグラフィ装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-008016   出願人：エスヴィージーリトグラフィーシステムズインコーポレイテッド

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