特許

J-GLOBAL ID：200903023287966615

ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者： 三村 岳由 ,  鈴木 貴子
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-155421
公開番号（公開出願番号）：特開2008-309888
出願日： 2007年06月12日
公開日（公表日）： 2008年12月25日
要約：

【課題】解像性に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、(A)成分は、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位(a1)と、アセタール型酸解離性溶解抑制基を有する構成単位(a2)とを含み、かつ、(B)成分は、9-フェニルチオカルバゾール構造を有するカチオンで表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、 前記樹脂成分(A)は、ヒドロキシスチレンから誘導される構成単位(a1)と、下記一般式(a2-1)または(a2-2)で表される構成単位(a2)とを含み、かつ、前記酸発生剤成分(B)は、下記一般式(b1-1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  C08F 212/14 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  C08F212/14 ,  H01L21/30 502R

Fターム (31件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BF15 ,  2H025BG00 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA05Q ,  4J100BA06Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15Q ,  4J100BC02Q ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100CA04 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-201310   出願人：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-100203   出願人：東京応化工業株式会社