特許
J-GLOBAL ID：200903009471357424
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-100203
公開番号（公開出願番号）：特開2005-037888
出願日： 2004年03月30日
公開日（公表日）： 2005年02月10日
要約：
【課題】 解像性、レジストパターン形状、焦点深度幅等のリソグラフィ特性に優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤(C)とを含むポジ型レジスト組成物であって、前記(B)成分が、下記一般式(I)[式中、R1、R2及びR3はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基であり、相互に同じであっても異なっていてもよく;p及びqはそれぞれ独立に1〜7の整数を表し;rは1〜5の整数を表し;X-は、スルホニウム塩を形成可能なアニオンである]で表されるスルホニウム塩であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤(C)とを含むポジ型レジスト組成物であって、
前記(B)成分が、下記一般式(I)
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (14件)：
2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025CC20
, 2H025FA17
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示
前のページに戻る
