特許
J-GLOBAL ID:200903023297426708

ミスト噴射弁

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 石田 和人 ,  山口 浩一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-319509
公開番号(公開出願番号):特開2006-150149
出願日: 2004年11月02日
公開日(公表日): 2006年06月15日
要約:
【課題】ミスト噴射弁への供給水圧が給湯栓からの動水圧程度である場合にも、正常なスプレー・パターンを得ることができ、微細なミストを噴霧することが可能なミスト噴射弁を提供する。【解決手段】断面円形の旋回流発生室14と、旋回流発生室14にほぼ接線方向に連通している1乃至複数の流入口15と、旋回流発生室14の一端に開口し、旋回流発生室14の中心軸と同軸にオリフィス形状に形成された噴射口16を備えたミスト噴射弁1において、旋回流発生室14から噴射口16の出口にかけての内壁面の曲折部分をすべて滑らかな曲面で形成する。これにより、旋回流発生室の内部で渦巻流を乱す乱流の発生が抑えられ、入水圧が低い場合であっても、噴射される薄水膜はよく広がり、ホロコーンの乱れが少なくなる。そして、膜状分裂が良好となり、噴射圧が低くても、細かい噴霧を得ることが可能となる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
断面円形の旋回流発生室と、 前記旋回流発生室にほぼ接線方向に連通している1乃至複数の流入口と、 前記旋回流発生室の一端に開口し、前記旋回流発生室の中心軸と同軸にオリフィス形状に形成された噴射口と、 を備えたミスト噴射弁において、 前記旋回流発生室から前記噴射口の出口にかけての内壁面の曲折部分がすべて滑らかな曲面に形成されていることを特徴とするミスト噴射弁。
IPC (1件):
B05B 1/34
FI (1件):
B05B1/34 101
Fターム (6件):
4F033AA11 ,  4F033BA04 ,  4F033CA01 ,  4F033DA01 ,  4F033EA01 ,  4F033KA03
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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