特許
J-GLOBAL ID：200903023299013494

無機層の真空成膜法、バリア性積層体、デバイスおよび光学部材

発明者：
塚本 直樹

塚本 直樹 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-067542
公開番号（公開出願番号）：特開2009-221541
出願日： 2008年03月17日
公開日（公表日）： 2009年10月01日
要約：
【課題】簡便な方法により従来よりもバリア性が高い無機層を成膜すること。【解決手段】無機層を成膜する面の面積がa(単位:cm2)である支持体を、容積が100a(単位:cm3)以下である第1真空槽へ搬入して真空状態とし、真空状態を維持したまま支持体を第2真空槽へ搬送して、第2真空槽内にて支持体上に無機層を真空成膜する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
支持体上に少なくとも1層の無機層を真空成膜する方法であって、 無機層を成膜する面の面積がa(単位:cm2)である支持体を、容積が100a(単位:cm3)以下である第1真空槽へ大気圧下で搬入し、 前記第1真空槽を減圧することにより真空状態とし、 真空状態を維持したまま、前記支持体を前記第1真空槽から第2真空槽へ搬送し、 前記第2真空槽内にて前記支持体上に少なくとも1層の無機層を成膜することを特徴とする無機層の真空成膜法。
IPC (5件)：
C23C 14/34 ,  B32B 9/00 ,  H05B 33/04 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/02
FI (5件)：
C23C14/34 S ,  B32B9/00 A ,  H05B33/04 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/02
Fターム (44件)：
3K107AA01 ,  3K107CC23 ,  3K107CC45 ,  3K107DD17 ,  3K107DD19 ,  3K107EE45 ,  3K107EE48 ,  3K107EE50 ,  3K107FF15 ,  3K107GG03 ,  3K107GG05 ,  3K107GG32 ,  4F100AA19A ,  4F100AD05A ,  4F100AK01B ,  4F100AK25 ,  4F100AK42 ,  4F100AT00B ,  4F100BA02 ,  4F100EH46 ,  4F100EH66A ,  4F100EJ54 ,  4F100GB41 ,  4F100JB14 ,  4F100JD01 ,  4F100JD04 ,  4K029AA09 ,  4K029AA11 ,  4K029AA24 ,  4K029AA25 ,  4K029BA44 ,  4K029BA50 ,  4K029BA58 ,  4K029BA62 ,  4K029BC09 ,  4K029CA06 ,  4K029DA03 ,  4K029DA04 ,  4K029DC02 ,  4K029DC03 ,  4K029DC34 ,  4K029DC39 ,  4K029FA07 ,  4K029KA09
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (7件)
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