特許
J-GLOBAL ID：200903023304034160

リソグラフィ装置

発明者：
エリック マリー ジョセ スミーツ

エリック マリー ジョセ スミーツ について

, 
レムコ ワッケル

レムコ ワッケル について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. について


代理人 (1件)： 森下 賢樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-140391
公開番号（公開出願番号）：特開2008-300836
出願日： 2008年05月29日
公開日（公表日）： 2008年12月11日
要約：
【課題】基板の周辺領域の露光を防止するための基板テーブル上に設けられたマスク材において感光面に直接露出してウエハ上にゴミの落下が起きないようにする。【解決手段】基板テーブル102に設けられたマスク116は移動可能なキャリア112に取り付けられ、移動可能なキャリアは、基板テーブルを少なくとも部分的に周回する移動範囲を有している。マスクは基板の外形よりも大きい内径を有するリングを備え、該リングは基板の上にかからない位置から、基板の周辺露光領域の上に張り出す位置まで移動可能に構成される。【選択図】図2a
請求項（抜粋）：
リソグラフィ装置用の基板テーブルであって、 前記基板テーブル上の基板の周辺露光領域の露光を防止するように構成されたマスクを含み、 前記マスクは移動可能なキャリアに取り付けられ、 前記移動可能なキャリアは前記基板テーブルを少なくとも部分的に周回する移動範囲を有することを特徴とする基板テーブル。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (4件)：
H01L21/30 577 ,  H01L21/30 515G ,  H01L21/30 515F ,  G03F7/20 501
Fターム (9件)：
2H097AA08 ,  2H097BA10 ,  2H097LA10 ,  5F046AA28 ,  5F046CB17 ,  5F046CC01 ,  5F046CC20 ,  5F046DA01 ,  5F046DA07
引用特許：
審査官引用 (3件)

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