特許
J-GLOBAL ID：200903084902841789

露光方法及び露光装置、デバイス製造方法

発明者：
長坂 博之

長坂 博之 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-011874
公開番号（公開出願番号）：特開2005-209706
出願日： 2004年01月20日
公開日（公表日）： 2005年08月04日
要約：
【課題】基板ステージ上に液体が残留することを防止し、良好な露光精度を維持できる露光方法を提供する。【解決手段】露光装置EXは、マスクMを支持するマスクステージMSTと、基板Pを支持する基板ステージPSTと、マスクステージMSTに支持されているマスクMを露光光ELで照明する照明光学系ILと、露光光ELで照明されたマスクMのパターン像を基板ステージPSTに支持されている基板Pに投影露光する投影光学系PLと、露光装置EX全体の動作を統括制御する制御装置CONTと、制御装置CONTに接続され、露光処理に関する各種情報を記憶した記憶装置MRYを備えている。更に、露光光ELの少なくとも一部の通過を制限する制限装置70を備え、基板Pの露光中に基板Pの外側に露光光ELが照射されないようにした。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
投影光学系と液体とを介して基板上に露光光を照射し、前記基板を露光する露光方法において、 前記基板の露光中に、前記基板の外側に前記露光光が照射されないようにしたことを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (3件)：
H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 516C
Fターム (4件)：
5F046BA03 ,  5F046CB01 ,  5F046CB25 ,  5F046DA11
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 国際公開第99/49504号パンフレット
審査官引用 (8件)
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