特許
J-GLOBAL ID:200903023325038743

成膜装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 渡部 温 ,  宇都宮 正明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-392328
公開番号(公開出願番号):特開2005-154803
出願日: 2003年11月21日
公開日(公表日): 2005年06月16日
要約:
【課題】 エアロゾルデポジション法を用いた成膜装置において、大きな面積を有する領域を成膜する際のタクトタイムを短縮すると共に、膜質を均一化する。 【解決手段】 原料の粉体を配置する複数のエアロゾル生成容器10a〜10dと、原料の粉体を噴き上げことによってエアロゾルを生成するために、複数の容器にガスをそれぞれ導入する複数のキャリアガス導入部11、ガスボンベガス14、圧力調整部15a〜15dと、基板を保持する基板ホルダ22と、生成されたエアロゾルを基板に向けてそれぞれ噴射する複数のノズル21a〜21dと、複数のエアロゾル生成容器に配置されている原料の粉体の重量を測定する重量センサ32a〜32dと、重量センサによる測定結果に基づいて、複数のノズルから所望の流速及び/又は濃度を有するエアロゾルがそれぞれ噴射されるように、圧力調整部15a〜15dを制御する制御部33とを含む。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
原料の粉体を配置する複数の容器と、 原料の粉体を噴き上げことによってエアロゾルを生成するために、前記複数の容器にガスをそれぞれ導入する複数のガス導入手段と、 基板を保持する保持手段と、 前記複数の容器において生成されたエアロゾルを前記基板に向けてそれぞれ噴射する複数のノズルと、 前記複数の容器に配置されている原料の粉体の重量を測定する測定手段と、 前記測定手段の測定結果に基づいて、前記複数のノズルから所望の流速及び/又は濃度を有するエアロゾルがそれぞれ噴射されるように、前記複数のガス導入手段を制御する制御手段と、 を具備する成膜装置。
IPC (3件):
C23C14/24 ,  B81C5/00 ,  C23C24/04
FI (3件):
C23C14/24 T ,  B81C5/00 ,  C23C24/04
Fターム (17件):
4K029AA02 ,  4K029AA24 ,  4K029BA50 ,  4K029BD00 ,  4K029CA00 ,  4K029DA06 ,  4K029DB10 ,  4K029EA02 ,  4K029EA04 ,  4K029JA01 ,  4K044AA03 ,  4K044AB02 ,  4K044BA12 ,  4K044BB01 ,  4K044CA23 ,  4K044CA29 ,  4K044CA71
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • セラミック構造物作製装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-169295   出願人:独立行政法人産業技術総合研究所, 東陶機器株式会社
審査官引用 (5件)
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