特許
J-GLOBAL ID:200903023407417580

水素製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉村 興作 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-152599
公開番号(公開出願番号):特開2002-338201
出願日: 2001年05月22日
公開日(公表日): 2002年11月27日
要約:
【要約】【課題】 効率的に水素を発生させる。【解決手段】 水に放射線を照射して、水を分解して、水素を発生させる。この水中に、金属を存在させ、これに放射線を照射すると、水素の発生効率が向上する。また、この金属が水素吸蔵金属の場合、生成した水素を選択的に取り出すことができるので、水素製造効率が一段と向上する。
請求項(抜粋):
水を分解することにより水素を製造する方法であって、水に放射線を照射して、水を分解することを特徴とする水素製造方法。
IPC (5件):
C01B 3/04 ,  B01J 19/00 ,  B01J 19/12 ,  C01B 3/56 ,  G21F 9/06
FI (5件):
C01B 3/04 R ,  B01J 19/00 C ,  B01J 19/12 C ,  C01B 3/56 A ,  G21F 9/06 Z
Fターム (21件):
4G040FA02 ,  4G040FB02 ,  4G040FB03 ,  4G040FC01 ,  4G040FE01 ,  4G075AA05 ,  4G075BA05 ,  4G075BB04 ,  4G075BB05 ,  4G075CA02 ,  4G075CA38 ,  4G075CA39 ,  4G075CA54 ,  4G075CA65 ,  4G075EA06 ,  4G075EB01 ,  4G075EB31 ,  4G075EE05 ,  4G075EE12 ,  4G075FB02 ,  4G075FC02
引用特許:
審査官引用 (4件)
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