特許
J-GLOBAL ID:200903023407417580
水素製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
杉村 興作 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-152599
公開番号(公開出願番号):特開2002-338201
出願日: 2001年05月22日
公開日(公表日): 2002年11月27日
要約:
【要約】【課題】 効率的に水素を発生させる。【解決手段】 水に放射線を照射して、水を分解して、水素を発生させる。この水中に、金属を存在させ、これに放射線を照射すると、水素の発生効率が向上する。また、この金属が水素吸蔵金属の場合、生成した水素を選択的に取り出すことができるので、水素製造効率が一段と向上する。
請求項(抜粋):
水を分解することにより水素を製造する方法であって、水に放射線を照射して、水を分解することを特徴とする水素製造方法。
IPC (5件):
C01B 3/04
, B01J 19/00
, B01J 19/12
, C01B 3/56
, G21F 9/06
FI (5件):
C01B 3/04 R
, B01J 19/00 C
, B01J 19/12 C
, C01B 3/56 A
, G21F 9/06 Z
Fターム (21件):
4G040FA02
, 4G040FB02
, 4G040FB03
, 4G040FC01
, 4G040FE01
, 4G075AA05
, 4G075BA05
, 4G075BB04
, 4G075BB05
, 4G075CA02
, 4G075CA38
, 4G075CA39
, 4G075CA54
, 4G075CA65
, 4G075EA06
, 4G075EB01
, 4G075EB31
, 4G075EE05
, 4G075EE12
, 4G075FB02
, 4G075FC02
引用特許: