特許
J-GLOBAL ID：200903023462844080

検査方法及び検査装置

発明者：
蓬莱 泉雄

蓬莱 泉雄 について

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小藪 拡和

小藪 拡和 について

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浦野 雄太

浦野 雄太 について

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神宮 孝広

神宮 孝広 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-176590
公開番号（公開出願番号）：特開2009-014510
出願日： 2007年07月04日
公開日（公表日）： 2009年01月22日
要約：
【課題】本発明の目的は、受光した散乱光の中から非弾性散乱光を取除くことによってS/N比が向上し、安定的に異物や欠陥の検出することにある。また本発明は、非弾性散乱光を選択することで、弾性散乱光で検出した欠陥や被検査面の組成分析、若しくは被検査物表面上の欠陥や、被検査物内部の組成を解明できる検査方法と検査装置を提供することにある。【解決手段】本発明の表面検査方法は、光学的に被検査物の表面内からの弾性散乱光と非弾性散乱光とを別々に、或いは同時に検出し、被検査物の欠陥の有無及び欠陥の特徴を検出し、検出された欠陥の被検査物の表面上の位置を検出し、検出された欠陥をその特徴に応じて分類し、欠陥の位置と、欠陥の特徴又は欠陥の分類結果とに基づいて、欠陥の非弾性散乱光検出による分析を行うものである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
検査光の照射により被検査体の表面から発生する散乱光で表面の組成、被検査体の内部組成、表面に付着する異物の物質を検知する検査方法において、 前記散乱光から選択した非弾性散乱光で検知することを特徴とする検査方法。
IPC (3件)：
G01N 21/956 ,  G01N 21/27 ,  G01N 21/65
FI (3件)：
G01N21/956 A ,  G01N21/27 B ,  G01N21/65
Fターム (45件)：
2G043AA01 ,  2G043AA03 ,  2G043BA01 ,  2G043BA14 ,  2G043CA05 ,  2G043DA05 ,  2G043EA03 ,  2G043EA14 ,  2G043FA01 ,  2G043FA02 ,  2G043FA06 ,  2G043HA01 ,  2G043HA03 ,  2G043JA02 ,  2G043JA04 ,  2G043KA02 ,  2G043KA03 ,  2G043KA05 ,  2G043KA08 ,  2G043KA09 ,  2G043LA03 ,  2G043NA01 ,  2G043NA05 ,  2G051AA51 ,  2G051AA71 ,  2G051AB06 ,  2G051AB07 ,  2G051BA10 ,  2G051BC07 ,  2G051CA02 ,  2G051CA07 ,  2G051CB05 ,  2G051CC07 ,  2G051CC15 ,  2G051EC01 ,  2G059AA01 ,  2G059BB16 ,  2G059EE02 ,  2G059EE03 ,  2G059FF01 ,  2G059GG01 ,  2G059HH03 ,  2G059JJ03 ,  2G059KK02 ,  2G059KK03
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 米国特許第5,798,829号特許明細書
  • 米国特許第7,002,677号特許明細書
審査官引用 (2件)

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