電子ビーム露光装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：若林忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-015266
公開番号（公開出願番号）：特開平10-214766
出願日： 1997年01月29日
公開日（公表日）： 1998年08月11日
要約：

【要約】【課題】マスクにより所定形状にパターニングした光線を電子ビームに変換してウエハを露光する電子ビーム露光装置の生産性を向上させる。【解決手段】電子ビームを電磁的に高速に主走査させ、マスク6とウエハ1000とを機械的に副走査移動させ、マスク6の全域をウエハ1000の全面に高速に露光させる。

請求項（抜粋）：

光線を出射する照明光学系と、該照明光学系から入射する光線を所定のパターンに形成するマスクと、該マスクを光軸と直交する方向に移動自在に支持するマスクステージと、前記マスクでパターニングされた光線を電子ビームに変換する光電変換器と、ウエハを電子ビームの光軸と直交する方向に移動自在に支持するウエハステージと、前記光電変換器から放出されるパターニングされた電子ビームを前記ウエハの表面に結像させる電子投影光学系と、該電子投影光学系の光学中心を光軸と直交する方向に変移させる軸移動器と、前記電子投影光学系での電子ビームの経路を偏向する軸偏向器と、前記ウエハに露光される前記マスクのパターンを一部の領域に制限する領域制限手段と、前記軸移動器と前記軸偏向器との動作を同期させて一部に制限された前記マスクと前記ウエハとの露光の領域を主走査させる主走査制御手段と、該主走査制御手段の動作に前記マスクステージと前記ウエハステージとの動作を同期させて前記マスクと前記ウエハとを副走査移動させる副走査制御手段と、を具備していることを特徴とする電子ビーム露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 541 R , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521

引用特許：

出願人引用 (9件)

特開昭59-143326
特開昭59-115526
荷電粒子ビーム露光方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-049491 出願人：富士通株式会社

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