光ディスク原盤処理方法及び処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：青山葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-298565
公開番号（公開出願番号）：特開平10-143928
出願日： 1996年11月11日
公開日（公表日）： 1998年05月29日
要約：

【要約】【課題】インラインシステムでの複数の工程をそれぞれ別のチャンバーで行うことなく一つのチャンバーで複数の処理を行うことができ、かつ、使用する異種の薬液が混じり合い好ましくない反応を起こすことがなく、廃液処理も各処理液毎に適切に行うことが可能な光ディスク原盤処理方法及び処理装置を提供する。【解決手段】インナーカップ5a〜5dが1つのチャンバー1内に複数設けて、それぞれの処理時に発生する余分な処理液を専用のインナーカップで回収し、別工程の処理液が混じり合うことがない。

請求項（抜粋）：

原盤(2,12,22)を回転可能に載置する原盤回転装置(3,13,23,10)と、上記原盤の表面に処理液を供給する複数の液供給ノズル(4,14,24)と、1つのチャンバー(1,11,22)内でかつ上記回転する原盤の外周に配置され、内周端に上記原盤の外周端に対向する開口(9a〜9d,19a,19b,29a,29b)を形成し、かつ、上記回転する原盤表面より遠心力で飛散した処理液を回収する複数の処理液回収容器(5a〜5d,15a,15b,25a,25b)とを備えた光ディスク原盤処理装置を使用して、原盤に上記処理液を供給して所定の処理を行う、光ディスク原盤処理方法であって、上記原盤を上記処理液回収容器まで相対的に移動させて該処理液回収容器の上記開口と上記原盤の外周端が対向するように位置させたのち、上記ノズルから上記処理液を上記原盤に供給して所定の処理を行い、その後、上記原盤を次の処理液回収容器まで相対的に移動させて該処理液回収容器の上記開口と上記原盤の外周端が対向するように位置させたのち、上記とは異なるノズルから処理液を上記原盤に供給して上記とは別の所定の処理を行うようにしたことを特徴とする光ディスク原盤処理方法。

IPC (2件)：

G11B 7/26 501 , G03F 7/30 502

FI (2件)：

G11B 7/26 501 , G03F 7/30 502

引用特許：

審査官引用 (3件)

浸漬式の液処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-355437 出願人：東京エレクトロン株式会社
処理方法及び処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-233456 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
現像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-119917 出願人：東京応化工業株式会社

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