特許
J-GLOBAL ID:200903023567742801

FIB-SEM装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井島 藤治 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-013946
公開番号(公開出願番号):特開平11-213936
出願日: 1998年01月27日
公開日(公表日): 1999年08月06日
要約:
【要約】【課題】 FIB加工の加工深度のモニタをSEM像によりリアルタイムに行うことができるFIB-SEM装置を実現する。【解決手段】 FIBカラム1からのイオンビームと、SEMカラム2からの電子ビームを同時に試料に照射し、イオンビームによる試料の加工を行うと共に、同時に電子ビームによる試料像のモニタを行う場合には、スイッチ33により、メッシュ電極31に電源34から負の電圧を印加する。この結果、検出器15により、電子ビームの試料への照射に基づくエネルギーの高い弾性散乱電子および非弾性散乱電子のみが検出される。この検出器15からの検出信号を陰極線管17に導けば、陰極線管17上には走査電子顕微鏡機能によって得られた像を表示することができ、FIBによって試料の加工を行っている最中であっても、SEMにより試料断面の像をモニタすることができるようになる。
請求項(抜粋):
試料に集束イオンビームを照射する機能と、集束イオンビームによって加工された試料断面に電子ビームを照射して走査電子顕微鏡像を観察することができるSEM機能とを備えたFIB-SEM装置において、集束イオンビームと電子ビームとの同時照射によって試料から発生する信号の内、エネルギーの比較的高い非弾性散乱電子と弾性散乱電子とを選択的に検出する検出器を設け、この検出器からの信号に基づいて走査電子顕微鏡像を表示するようにしたFIB-SEM装置。
IPC (3件):
H01J 37/317 ,  H01J 37/28 ,  H01L 21/66
FI (3件):
H01J 37/317 D ,  H01J 37/28 B ,  H01L 21/66 J
引用特許:
審査官引用 (6件)
  • イオンビームによる試料加工装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-322720   出願人:株式会社日立製作所
  • 2次電子検出器
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-016623   出願人:日本電子株式会社
  • 特開平3-295142
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