特許
J-GLOBAL ID:200903023569444840

温熱治療装置、マイクロカプセル及び注射剤

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 恩田 博宣 ,  恩田 誠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-307299
公開番号(公開出願番号):特開2006-116083
出願日: 2004年10月21日
公開日(公表日): 2006年05月11日
要約:
【課題】 生体侵襲性の低い温熱治療を有効に実施することが可能な温熱治療装置、マイクロカプセル及び注射剤を提供する。【解決手段】 温熱治療装置10は、高周波加熱可能な磁性粒子が封入されてなるマイクロカプセルを用いて温熱治療を行うものであり、磁性粒子に静磁場を印加してマイクロカプセルを生体内の所定位置に集積させるとともにその位置での滞留時間を増加させる静磁場印加部12と、磁性粒子に電磁波を照射して高周波加熱する電磁波照射部13とを備える。さらに、温熱治療装置10は、磁気共鳴イメージングにて磁性粒子の温度を測定する温度測定部及び静磁場印加部12から印加される静磁場の磁束を収束させる磁束収束部24を備えるのが好ましい。マイクロカプセルは、カプセル本体と、カプセル本体内に封入された磁性粒子とを備える。カプセル本体の平均粒径は10μm未満であり、磁性粒子の平均粒径は50nm以上である。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
高周波加熱可能な磁性粒子が封入されてなるマイクロカプセルを用いて温熱治療を行う温熱治療装置であって、 前記磁性粒子に静磁場を印加して前記マイクロカプセルを生体内の所定位置に集積させるとともにその位置での滞留時間を増加させる静磁場印加部と、同磁性粒子に電磁波を照射して高周波加熱する電磁波照射部とを備えてなることを特徴とする温熱治療装置。
IPC (4件):
A61F 7/00 ,  A61M 37/00 ,  A61N 1/40 ,  A61N 5/02
FI (4件):
A61F7/00 320Z ,  A61M37/00 ,  A61N1/40 ,  A61N5/02
Fターム (36件):
4C053LL02 ,  4C053LL03 ,  4C053LL14 ,  4C082MA02 ,  4C082MC03 ,  4C082ME02 ,  4C082ME11 ,  4C082ME14 ,  4C082ME17 ,  4C082ME27 ,  4C082MG01 ,  4C082MG07 ,  4C082MJ01 ,  4C082MJ04 ,  4C082MJ07 ,  4C099AA01 ,  4C099CA13 ,  4C099EA08 ,  4C099JA11 ,  4C099LA01 ,  4C099LA25 ,  4C099PA01 ,  4C099PA06 ,  4C167AA75 ,  4C167BB26 ,  4C167BB44 ,  4C167BB46 ,  4C167BB56 ,  4C167BB61 ,  4C167CC04 ,  4C167EE01 ,  4C167EE05 ,  4C167GG26 ,  4C167GG47 ,  4C167HH08 ,  4C167HH11
引用特許:
出願人引用 (1件)

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