特許
J-GLOBAL ID：200903023722236462
化学増幅型ポジ型レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
久保山 隆
, 中山 亨
, 榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-189298
公開番号（公開出願番号）：特開2004-177929
出願日： 2003年07月01日
公開日（公表日）： 2004年06月24日
要約：
【課題】高感度、高解像力を有し、特に断面形状の矩形性とラインエッジラフネスが改良された化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(1)下式(Ia)で示される酸に不安定な基を有する重合単位及び(Ib)で示される酸に不安定な基を有する重合単位からなる群から選ばれた少なくとも1種の重合単位、並びに(2)p-ヒドロキシスチレンから導かれる重合単位を有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、上記酸に不安定な基が酸の作用により解裂した後はアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、酸発生剤、並びに脂環式炭化水素基を有する含窒素化合物を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。(式中、R1、R2は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、R3〜R5は、それぞれ独立に炭素数1〜8のアルキル基を表す。)【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(1)下式(Ia)で示される酸に不安定な基を有する重合単位及び(Ib)で示される酸に不安定な基を有する重合単位からなる群から選ばれた少なくとも1種の重合単位、並びに(2)p-ヒドロキシスチレンから導かれる重合単位を有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、上記酸に不安定な基が酸の作用により解裂した後はアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、酸発生剤、並びに脂環式炭化水素基を有する含窒素化合物を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F7/039
, C08F220/18
, G03F7/004
, H01L21/027
G03F7/039 601
, C08F220/18
, G03F7/004 501
, H01L21/30 502R
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025CC20
, 2H025FA03
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 4J100AB07Q
, 4J100AL08P
, 4J100BA03Q
, 4J100BC15P
, 4J100CA04
, 4J100DA39
, 4J100DA61
, 4J100EA01
, 4J100JA38
