特許
J-GLOBAL ID:200903023833803323
ホットプレート型のプロキシミティベーク炉に使用するピン及びそれを使用した炉
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
野河 信太郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-338058
公開番号(公開出願番号):特開平8-279548
出願日: 1993年12月28日
公開日(公表日): 1996年10月22日
要約:
【要約】【目的】 ホットプレート型のプロキシミティベーク炉の基板を支持するピンを合成樹脂製にすることにより、ピンにより基板の裏面に傷が発生することを防止する。【構成】 ホットプレート型のプロキシミティベーク炉1において、ホットプレート4の均熱板32から上方に突出して複数個設けられ、基板5を支持する頭部8を有し、頭部8に載置される基板5と均熱板3とをプロキシミティベークが可能な距離に保持するプロキシミティピン6,6aが、合成樹脂製である。
請求項(抜粋):
ホットプレート型のプロキシミティベーク炉に使用され、ホットプレートの加熱面から突出して加熱面に複数個設けられ、基板を支持する頭部を有し、頭部に載置される基板とホットプレートの加熱面とをプロキシミティベークが可能な距離に保持するピンであり、このピンが、合成樹脂製であることを特徴とするホットプレート型のプロキシミティベーク炉に使用するピン。
IPC (3件):
H01L 21/68
, G03F 7/38 501
, H01L 21/027
FI (3件):
H01L 21/68 N
, G03F 7/38 501
, H01L 21/30 567
引用特許:
審査官引用 (8件)
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特開平4-137722
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板状物保持手段およびそれを用いた装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-199617
出願人:株式会社日立製作所
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特開平4-000736
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基板加熱装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-206950
出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
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特開平4-127516
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レジストのベーキング方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-227577
出願人:富士通株式会社
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特開平4-137722
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特開平4-127516
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