特許
J-GLOBAL ID:200903023982017810
ホウ素含有水の処理方法
発明者:
,
,
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
内山 充
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-271428
公開番号(公開出願番号):特開2003-080269
出願日: 2001年09月07日
公開日(公表日): 2003年03月18日
要約:
【要約】【課題】ホウ素含有水を凝集沈殿処理及び/又はイオン交換処理により処理するに際して、使用する薬剤の量とイオン交換樹脂の再生頻度を低減し、効率的にホウ素を除去することができるホウ素含有水の処理方法を提供する。【解決手段】(1)ホウ素含有水を凝集沈殿処理するに際して、ホウ素含有水のホウ素濃度を自動分析して凝集薬剤の添加量を自動制御するホウ素含有水の処理方法、(2)ホウ素含有水をイオン交換処理するに際して、ホウ素含有水のホウ素濃度を自動分析してイオン交換樹脂の再生時機を自動制御するホウ素含有水の処理方法、及び、(3)ホウ素含有水を凝集沈殿処理したのちイオン交換処理するに際して、ホウ素含有水のホウ素濃度を自動分析して、凝集薬剤の添加量を自動制御するホウ素含有水の処理方法。
請求項(抜粋):
ホウ素含有水を凝集沈殿処理するに際して、ホウ素含有水のホウ素濃度を自動分析して凝集薬剤の添加量を自動制御することを特徴とするホウ素含有水の処理方法。
IPC (3件):
C02F 1/58 ZAB
, C02F 1/42
, C02F 1/52
FI (3件):
C02F 1/58 ZAB H
, C02F 1/42 E
, C02F 1/52 K
Fターム (25件):
4D015BA19
, 4D015BA21
, 4D015BB05
, 4D015CA20
, 4D015DA05
, 4D015DA22
, 4D015EA15
, 4D015EA32
, 4D015FA02
, 4D015FA12
, 4D015FA22
, 4D025AA09
, 4D025AB33
, 4D025BA13
, 4D025BB02
, 4D025CA02
, 4D025CA05
, 4D025CA06
, 4D025DA10
, 4D038AA08
, 4D038AB25
, 4D038BA04
, 4D038BA06
, 4D038BB06
, 4D038BB08
引用特許:
前のページに戻る