特許
J-GLOBAL ID：200903023986001820
CVD装置およびCVD装置用気化装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-157362
公開番号（公開出願番号）：特開2000-345345
出願日： 1999年06月04日
公開日（公表日）： 2000年12月12日
要約：
【要約】【課題】 良好な特性を有するCVD膜を、長期間安定してかつ効率的に形成することが可能なCVD装置およびCVD装置用気化装置を提供する。【解決手段】 CVD装置用気化装置は原料導入管26aと気化室21と冷却手段30、31とを備える。原料導入管26aはCVD膜の原料の溶液とその溶液を搬送する気体とを含む混合体を移送する。気化室21は原料導入管26aに接続され、原料導入管26aから導入された原料を気化する。冷却手段30、31は原料導入管26aのうち気化室21に隣接する部分を冷却する。
請求項（抜粋）：
CVD膜の原料の溶液とその溶液を搬送する気体とを含む混合体を移送する原料導入管と、前記原料導入管に接続され、前記原料導入管から導入された前記原料を気化する気化室と、前記原料導入管のうち前記気化室に隣接する部分を冷却する冷却手段とを備える、CVD装置用気化装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 16/44 C
, H01L 21/31 B
4K030AA11
, 4K030BA42
, 4K030EA01
, 4K030JA09
, 4K030JA10
, 4K030KA26
, 4K030KA47
, 4K030LA15
, 5F045AB31
, 5F045AC07
, 5F045BB08
, 5F045BB10
, 5F045EB02
, 5F045EB03
, 5F045EC07
, 5F045EC09
, 5F045EE02
, 5F045EJ01
, 5F045EJ08
