特許
J-GLOBAL ID：200903023988414692
光学素子の表面加工方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-013812
公開番号（公開出願番号）：特開2006-199542
出願日： 2005年01月21日
公開日（公表日）： 2006年08月03日
要約：
【課題】 光学素子の表面に微細構造からなる反射防止構造を低コスト、短時間で形成する光学素子の表面加工方法を提供する。【解決手段】 光学素子の表面に入射する又は透過する光の反射防止構造を形成する光学素子の表面加工方法において、光学素子1の表面にAl膜2を形成する工程と、Al膜2を陽極酸化して複数の孔3aの形成されたAl陽極酸化膜3を形成する工程と、Al陽極酸化膜3上にCr膜4を形成する工程と、Cr膜4をマスクとして光学素子1の表面をエッチングして、Al陽極酸化膜3に形成された複数の孔3aに対応して光学素子1の表面に円筒状の孔1bを形成する工程とを有する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
表面をナノオーダーの凹凸で加工する光学素子の表面加工方法において、
前記光学素子の表面にAl膜を形成した後、前記Al膜のシュウ酸処理を行って陽極酸化して多孔質なAl陽極酸化膜を形成し、
次に、前記Al陽極酸化膜上に金属膜を形成し、前記Al陽極酸化膜から露出した前記光学素子のドライエッチングを行い、
次に、前記金属膜及び前記Al陽極酸化膜をウェットエッチングして、前記ナノオーダーの凹凸を得ることを特徴とする光学素子の表面加工方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (12件)：
2K009AA12
, 2K009CC03
, 2K009CC14
, 2K009DD12
, 4G059AA08
, 4G059AA11
, 4G059AB06
, 4G059AB07
, 4G059AB11
, 4G059AC01
, 4G059BB01
, 4G059BB12
