回路パターンの検査方法及び検査装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高田幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-122565
公開番号（公開出願番号）：特開2000-314710
出願日： 1999年04月28日
公開日（公表日）： 2000年11月14日
要約：

【要約】【課題】被検査回路パターンの材料や構造、検出したい欠陥の種類に応じて電子線の最適照射条件を求め、検査時間を遅延させることなく最適な条件で検査ができるようにする。【解決手段】試料に電子線19を試料基板9に照射して、発生した二次電子を検出部7にて検出し、取得した信号を記憶装置に順次記憶し、記憶装置に記憶した同等のパターンを比較演算部で比較し、欠陥判定部で所定のしきい値と比較信号を比べて欠陥を抽出する検査装置であって、装置内部のデータベースに試料の構造に応じて照射エネルギーの最適値を予め登録しておき、ユーザが照射エネルギーを入力あるいは選択するか、被検査物の構造に関する情報を入力することで検査に適した照射エネルギーの推奨値を検索することができる。上記検査方法を用いることにより、回路パターンを有する基板を検査すると同時に欠陥を検出した箇所の画像を自動的に保存できる。また、保存した画像を用いて、検査と同時にあるいは検査と別個に欠陥の分類が可能になる。

請求項（抜粋）：

試料にパターンが形成された基板表面を電子線で走査する工程と、試料に電圧を印加する工程と、上記電子線により上記基板表面から二次的に発生する信号を検出する工程と、検出された信号から該基板表面の電子線画像を形成する工程と、該電子線画像を記憶する工程とを有し、前記記憶した画像より欠陥を判定する工程を含む検査方法であって、被検査回路パターンに応じて前記基板表面へ入射させる電子線照射条件を見い出す工程を含むことを特徴とする回路パターンの検査方法。

IPC (5件)：

G01N 23/225 , G01B 15/00 , G01R 1/06 , G01R 31/302 , H01L 21/66

FI (5件)：

G01N 23/225 , G01B 15/00 B , G01R 1/06 F , H01L 21/66 J , G01R 31/28 L

Fターム (85件)：

2F067AA54 , 2F067AA62 , 2F067BB01 , 2F067BB04 , 2F067CC15 , 2F067EE04 , 2F067EE10 , 2F067HH06 , 2F067JJ05 , 2F067KK04 , 2F067QQ02 , 2F067RR12 , 2F067RR24 , 2F067RR30 , 2F067RR35 , 2G001AA03 , 2G001AA07 , 2G001AA09 , 2G001BA07 , 2G001CA03 , 2G001CA07 , 2G001DA09 , 2G001FA01 , 2G001FA06 , 2G001GA01 , 2G001GA06 , 2G001GA09 , 2G001GA11 , 2G001HA01 , 2G001HA07 , 2G001HA13 , 2G001JA02 , 2G001JA03 , 2G001JA11 , 2G001JA13 , 2G001JA14 , 2G001KA03 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 2G001PA11 , 2G011AD00 , 2G011AE03 , 2G032AA00 , 2G032AD08 , 2G032AE08 , 2G032AF08 , 4M106AA01 , 4M106AA09 , 4M106AA20 , 4M106BA02 , 4M106BA14 , 4M106CA15 , 4M106CA39 , 4M106CA48 , 4M106DB04 , 4M106DB05 , 4M106DB20 , 4M106DJ02 , 4M106DJ04 , 4M106DJ11 , 4M106DJ18 , 4M106DJ21 , 4M106DJ23 , 4M106DJ38 , 9A001BB01 , 9A001BB03 , 9A001BB04 , 9A001BB05 , 9A001DD13 , 9A001EE05 , 9A001FF03 , 9A001HH21 , 9A001HH23 , 9A001JJ46 , 9A001JJ49 , 9A001JJ50 , 9A001KK16 , 9A001KK31 , 9A001KK34 , 9A001KK35 , 9A001KK36 , 9A001KK37 , 9A001KK42 , 9A001LL02 , 9A001LL05

引用特許：

審査官引用 (3件)

回路パターンの検査方法及び検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-045234 出願人：株式会社日立製作所
異物分析方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-179416 出願人：日本電子株式会社
原子吸光光度計
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-246140 出願人：株式会社日立製作所

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