特許

J-GLOBAL ID：200903024083861195

単分子膜形成装置及び単分子膜形成方法

発明者： 富永 浩二 ,  山岸 豊 ,  松本 浩一
出願人/特許権者： 株式会社堀場製作所
代理人 (2件)： 西村 竜平 ,  佐藤 明子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-294037
公開番号（公開出願番号）：特開2007-100191
出願日： 2005年10月06日
公開日（公表日）： 2007年04月19日
要約：

【課題】均一かつ細密に充填したSAMを大面積の基板に形成することを可能とする装置及び方法を提供する。【解決手段】自己組織化分子を含有する液体原料を気化し、基板上に自己組織化単分子膜を形成する装置であって、前記基板を内部に保持する成膜室と、前記液体原料を前記成膜室内に直接噴射する噴射弁を備えるようにした。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

自己組織化分子を含有する液体原料を気化し、基板上に自己組織化単分子膜を形成する装置であって、 前記基板を内部に保持する成膜室と、前記液体原料を前記成膜室内に直接噴射する噴射弁を備えていることを特徴とする単分子膜形成装置。

IPC (5件)：

C23C 14/12 ,  C23C 16/455 ,  C23C 14/24 ,  C30B 29/68 ,  B82B 3/00

FI (5件)：

C23C14/12 ,  C23C16/455 ,  C23C14/24 S ,  C30B29/68 ,  B82B3/00

Fターム (35件)：

4G077AA03 ,  4G077BF02 ,  4G077BF05 ,  4G077BF10 ,  4G077EA02 ,  4G077EA03 ,  4G077ED06 ,  4G077EG16 ,  4K029AA01 ,  4K029BA62 ,  4K029BB01 ,  4K029BB07 ,  4K029BB09 ,  4K029CA01 ,  4K029DA02 ,  4K029DA04 ,  4K029DA05 ,  4K029DA08 ,  4K029DB06 ,  4K029EA03 ,  4K029EA04 ,  4K029EA05 ,  4K030AA09 ,  4K030BA61 ,  4K030BB01 ,  4K030BB02 ,  4K030BB11 ,  4K030CA01 ,  4K030EA03 ,  4K030EA04 ,  4K030EA11 ,  4K030JA05 ,  4K030JA09 ,  4K030JA11 ,  4K030KA23

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 化学吸着膜形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-008967   出願人：松下電器産業株式会社

審査官引用 (2件)

• 有機単分子膜の形成方法とそのパターニング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-094349   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 原子層化学気相成長装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-505362   出願人：ガジルプラサードナーハ